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长江存储急了,今后高端闪存颗粒需要光刻机,ASML已经宣布断供

由 闻人海瑶 发布于 科技

芯片的制造少不了ASML生产的光刻机,其中目前最先进的当属ASML旗下的EUV光刻机,比如麒麟990 5G芯片就是使用了7nm euv工艺,由台积电代工制造,未来也会有更多的PC芯片和手机芯片使用这一工艺。但是很多人可能没有想到,如今连内存颗粒生产也都要用上EUV光刻机了。

EUV光刻机的单价不菲,一台就要上10亿美元,当然,这类光刻机的前期研发和设计也是三星、台积电和Intel共同参与的,如今后者都购入了数量不等的EUV光刻机用于生产各类芯片。然而内存颗粒为了提升存储密度,也必须及时使用最先进的半导体工艺,在三星之后,SK海力士也准备购买EUV光刻机。

SK海力士作为全球第二大内存颗粒供应商,目前已经在研发1x nm工艺的内存,内部代号“南极星”,具体节点大概在15nm,预计会引入EUV光刻机生产。而三星将从第四代10nm内存颗粒或部分高端14nm内存颗粒开始全面导入EUV光刻机生产,进度明显比SK海力士要快。

对于内存颗粒来说,相比之前的深紫外光刻机,EUV光刻机可以减少多重曝光工艺,提升工艺精度和良品率,从而可以减少生产时间、降低成本,并提高性能。因此,尽管EUV光刻机10亿美元一台的初期成本很高,维护费用也不可小觑,但是可以通过后期的内存颗粒大批量生产来摊薄成本,长远来看也有利于内存的降价。