华为事件告诉我们：芯片光有自研能力不行，还得有自造能力。
道理很简单，再优秀的芯片设计公司，如果设计出来的芯片没有人进行生产制造，也会沦为一家图纸公司。
芯片制造，设备关键有两个，一个是光刻机，一个是刻蚀机。
刻蚀机方面，中微半导体的国产5nm的刻蚀机已经获得了台积电的认可，毫无疑问在刻蚀机领域中国已经走到了世界前列。
然而，在光刻机领域，目前全球的光刻机被ASML、尼康和佳能完全垄断，三者合计市场占有率高达99%，高端EUV光刻机市场ASML一家独大，市场占有率高达100%。
今年以来，A股市场热炒的“光刻概念股”，其实大多数还是主要在炒光刻胶，算不上真正的光刻机概念。
不过，近日，有一家公司向上交所递交了招股说明书，准备登陆科创板上市，它，打破了国际巨头ASML的垄断，被誉为“中国最硬的科技企业”
这家公司就是：华卓精科！
一、打破ASML垄断 国产光刻机“第一股”来了
一台EUV光刻机，有超过十万个零件、四万个螺栓、三千条电线、两公里长的软管等零部件，重量高达18万公斤，需要40个货柜、20辆卡车、3驾货运飞机才能完成运输。
在ASML光刻机的核心组件当中，激光光源是由美国的Cymer公司提供，工作台是由ASML TSMC提供、物镜组是德国的蔡司公司提供、光学组件是德国Berliner Glas公司提供、零部件是由日本的Kyocera……
可以说一台光刻机是汇集了全球各个国家最为顶尖的工艺，是全球工艺的集大成者。
不过，因为受到《瓦森纳协议》的影响，国外制造光刻机的先进科技都对我国实施技术管制，这也就意味着我们国产的光刻机无法像ASML一样通过全球合作来实现，每一个零部件都必须依靠本土光刻机组件和配套产业链来完成，每个组件都得国产，难度之大，可以想象。
虽然一台光刻机的零部件超过10万个，但是难度最大的存在于三个地方：激光光源、曝光系统和工件台，只要这三个核心难点解决了，国产光刻机也就指日可待了。
对于这三个核心难点，日本尼康株式会社的社长来我国访问时曾说过一句话：“光刻机光学系统虽然很难，我相信你们能够研制出来，但（双）工件台恐怕就拿不下来了，因为这个系统太复杂了”。
工件台，光刻机的核心组件之一，一般要求在高速运动的情况下需要达到2nm的运动精度，2000年之前，光刻设备只有一个工作台，2001年ASML公司推出了双工件台技术，大大的提升了生产效率和精准率，ASML也成为了去全球唯一一个掌握该技术的公司。
不过，ASML筑起的技术铜墙铁壁正在被中国的公司一个个击破。
2016年4月份，由清华大学牵头的02专项“光刻机双工件台系统样机研发”项目成功通过验收，预示着国内的双工件台系统已经打破了ASML的垄断。
双工件台技术背后的企业就是华卓精科，根据公司的招股说明书，目前公司的双工件台已经给光刻机的整机厂商上海微电子进行供货。
这一次华卓精科提交上市申请，如果最终获批，也将成为Ａ股光刻机概念“第一股”。
二、技术有短板 市场有不足 战略意义大于市场意义
华卓精科的双工件台技术虽然打破了ASML的垄断，实现了从0到1的突破，但是与国外的先进技术还有一些差距。
这一点，我们可以从公司的招股说明书的措辞上看出，根据公司的招股说明书，公司的光刻机双工件台产品的技术性能描述上使用的是：接近国际同类设备水平，接近跟达到其实是两码事。
目前公司的双台系列产品主要应用于65nm及以下节点的ArF干式、浸没式步进扫描光刻机，而国际先进水平的双台技术已经运用于7nm，甚至5nm光刻机的生产制造。
除此之外，我们注意到，公司在最近三年的营业收入分别为5410.22万元、8570.92 万元、12096.58 万元，年复合增长率接近50%，但是作为公司的拳头产品，光刻机双工件台的营业收入却分别为1521.37万、795万、0万元，呈现出明显的下降趋势。
背后的原因其实也很好理解，因为公司双工件台的主要客户还是光刻机整机生产厂商，而目前全球99%的光刻机市场份额都被ASML、尼康和佳能这三家巨头所占据，公司的客户还是依赖于上海微电子。
这跟ASML是不一样，ASML的产品“一台难求”，技术推动市场，市场又不断地反哺技术，形成一个良性的正反馈。
华卓精科未来双工件台收入的提升，一个是依赖于自身技术的持续升级，还有一个就是依赖于上海微电子产能的释放，更重要的是要打造市场和技术升级的正向循环。
不过，从短期来看，公司市场和技术的正向循环的短板问题不大。
因为当前正处于国家对于集成电路行业的大力扶持阶段，投资都是撒胡椒面式的，相应的我们注意到，在过去三年，公司收到的政府补助分别高达6836.83万、1.39亿、3.21亿元，年复合增长率超过100%。
只要政府的补助不停，公司未来的技术研发就有了可靠的资金保障，也弥补了市场不足所带来的收入下滑风险，毕竟对于当下来说，公司的战略意义要大于其市场意义。
三、未来的国产光刻机究竟看谁？
今年以来我国的芯片行业所面临的困难，其实就跟这场新冠疫情一样，不能只依赖于一家公司，而是要全国的相关企业都得通力合作。
现如今，在国产光刻机这个领域除了华卓精科之外，我们已经看到了其他一些好的苗头：
上海微电子，光刻机整机制造，公司自研的600系列光刻机已经实现了90nm的量产，预计在2021年到2022年交付第一台28nm工艺的沉浸式国产光刻机。
北京科益虹源，光刻机光源制造，公司是中科院旗下的子公司，也是中国唯一、世界第三家高能准分子激光器研发制造企业，目前已完成6khz、60w光刻机光源的制造，该光源即为现阶段主流ArF光刻机光源，上海微电子即将交付的28nm光刻机部分光源就是由科益虹源提供。
国科精密，光学系统和物镜系统供应商，目前公司研发的Epolith A075型曝光光学系统，是我国首套具有全部知识产权的90nm节点光刻机曝光光学系统。在这个赛道当中还有国望光学，也是给光刻机提供物镜组的。
启尔机电，国产光刻机浸液系统提供商，公司前身为浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室的科研团队，主要产品为沉浸式光刻机四大核心部件之一的浸液系统，目前研发进度仅次于荷兰ASML及日本Nikon。
……
一个国家在一个领域达到世界领先已经很难能可贵了，现在我们所面临的挑战是必须在各个领域都得达到世界领先水平，很显然，这是一场长征！