光刻机为何如此复杂，原来它拥有这12个子系统发布于: 科技2020-07-04标签: 光刻机子系统阿斯系统由 今年6月，上海微电子光刻机设备制造商公布，预计2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。 此时，国产光刻机与荷兰阿斯麦（ASML）的光刻机主要差距在哪里？ 光刻机是多个系统
