韩国：极紫外光刻专利连年增长 硬件相关领域成果亮眼发布于: 科技2021-01-11标签: 韩国韩国科学技术院超低功耗韩国知识产权局本文转自【科技日报】；本报驻韩国记者 邰举 韩国知识产权局发布的报告显示，过去10年来，向该局申请极紫外（EUV）光刻相关专利的韩国企业数量连年增长，其中2019年的50件申请中，韩国企业提交了40个