中科院研发新型激光光刻技术:不用EUV 直击5nm
荷兰ASML公司是全球唯一能生产EUV光刻机的公司,他们之前表态7nm以下工艺都需要EUV光刻机才行。现在中科院苏州纳米所的团队开发了一种新的激光光刻技术,不需要使用EUV技术就可以制备出5nm特征线
荷兰ASML公司是全球唯一能生产EUV光刻机的公司,他们之前表态7nm以下工艺都需要EUV光刻机才行。现在中科院苏州纳米所的团队开发了一种新的激光光刻技术,不需要使用EUV技术就可以制备出5nm特征线
(本文首发腾讯科技,未经许可,请勿转载;全文共3200字,完全阅读需5分钟) 划重点: 以下为正文: 5月5日,中国最大的晶圆代工厂中芯国际宣布回归A股,确定科创板上市,拟发行16.86亿股