5月21日消息，據國外媒體報道，三星電子新的基於極紫外光刻（EUV）技術的5nm芯片生產線，已經開始建設，投資高達81億美元，計劃在明年下半年投入運營。
從外媒的報道，三星是在週四宣佈這一生產線已開始建設的，生產線位於韓國京畿道平澤的三星園區，是在本月開始建設的，計劃明年全部建成。
外媒的報道還顯示，三星的這一新的5nm芯片生產線，計劃投資10萬億韓元，也就是約81億美元，建成之後很快就會投入運營，三星是計劃在明年下半年就投入運營。
採用極紫外光刻技術，芯片代工商就能順利生產5nm及更先進工藝的芯片，三星基於極紫外光刻技術的7nm工藝，在去年已開始量產，三星在去年也首次宣佈他們順利研發出了基於極紫外光刻技術的5nm工藝。
三星已開始建設的這一條5nm EUV生產線，建成後將生產用於5G、高性能計算機及人工智能領域的芯片。這一條生產線建成之後，三星在韓國和美國的芯片代工生產線，就將增至7條。