台積電加速研發2nm工藝:成本可輕鬆超10億美元

台積電加速研發2nm工藝:成本可輕鬆超10億美元

這幾年,天字一號代工廠台積電一路高歌猛進:7nm工藝上獨步天下,5nm工藝也正在量產,3nm工藝就在不遠處,2nm工藝也正在藍圖上鋪開……

在最新的2019年年報中,台積電確認5nm已經進入量產階段,3nm正在持續研發,同時今年還會加快2nm(N2)的研發速度。

台積電透露,2019年已經在業內率先啓動2nm工藝研發,並在關鍵的光刻技術上進行2nm以下技術開發的前期準備工作。

台積電從7nm工藝開始導入EUV極紫外光刻技術,5nm上也順利轉移,而且在3nm上展現了優異的光學能力和符合預期的良品率,所以在2nm和後續更先進工藝上,台積電將繼續重點改善EUV技術的質量與成本。

對,注意成本兩個字。

其實,對於3nm、2nm這些更先進的製程工藝,技術挑戰還是次要的,最關鍵的是成本,因為隨着半導體工藝的演進,不但台積電、三星這些代工廠需要投入動輒數百億美元的資金用於研發、建廠,芯片設計公司也必須跟着燒錢,一方面是芯片設計難度的急劇增加,另一方面也要幫助代工廠均攤成本。

有數據顯示,7nm工藝芯片的研發需要至少3億美元的投資,5nm工藝上平均要5.42億美元,3nm、2nm工藝還沒數據,但起步10億美元是沒跑了,至少2nm工藝不會低於這個數。

(來源:快科技)

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