對於各個國家來説，芯片技術也是非常關鍵的存在。如果在這一方面能夠得到突破，那麼本國的很多先進科技力量都會隨之得到提升。在目前這個智能化的時代，許多特別先進的高科技都涉及到了芯片。因此在這一方面也很有必要去做出更多的突破，但遺憾的是，我國在芯片領域始終沒有獲得太多的提升，落後了美國很多，所以才會受到該國的壓制。不久前，該國就對我國的華為進行了更多的限制。
美國明確指出，要限制向這一企業供應相關的芯片，甚至還下了命令，限制其他使用美國產品的國家對這一企業進行芯片的供應，這一系列都使得華為受到了很大的影響，也進一步顯現出了我國在這一方面存在較大的劣勢。不過，現在也並不是完全沒有改進。中科院再度傳來好消息！中國不再被卡“脖子”，成功打破歐美封鎖。這一次的突破主要在於5納米光刻機技術方面得到了很大的進展，而且採用的技術與荷蘭ASML公司有很大的區別。
如果這一技術能夠完全得到完善，那麼我國就可以直接從28納米光刻機工藝直接跳過10納米和7納米工藝，生產出5納米最為頂尖的高科技工藝。這對於本國的芯片發展來説，也是一種很大的提升。只要在這一方面能夠得到進一步的完善，那麼就可以去獲得更多的突破。對於任何一個國家來説，這種芯片工藝的突破也是非常具有意義的，可以進一步使得本國的相關科技水平得到提升，因此這一點也顯得非常重要，我國在這一方面獲得突破之後，也就真正迎來了更進一步的提升。
不過目前該項技術還不是特別完善，一切都處於研發當中，至少能夠讓國人看到希望，擁有突破美國封鎖的機會。發現這一新技術的中科院蘇州所也並沒有對這一方面的突破進行隱瞞，而是讓國內的同行們共同去參與到研發過程中，瞄準新的方向來進行突破。如果在這一方面有了很好的改進，那麼就會節省一大筆資金，因為5納米光刻機售價肯定不會低於1.8億美元，這也是我國一直受到限制的一個原因，總會在這一方面沒有太好的突破。
不過現在也不能盲目樂觀，儘管中科院採用了不同的方法來對這一全新工藝進行研發，但是從目前的中國科技水平來看，想要短時間內去進行很多技術突破，也並不會特別順利。畢竟這是屬於一種高尖端的工藝技術突破，如果在這期間出現了任何差錯，都有可能功虧一簣，所以在不斷研發的過程中，還需要更多的投資與研究，逐漸將各個難題擊破，才有機會來進行完善。所以，現在的5納米光刻機還不能在短時間內真正被研發出來。即便是這一技術已經有了很大的進展，也是研究人員經過了十幾年的不斷努力才得到的成果。
由此看來，在接下來的努力過程中，依然需要去瞄準方向，並且做更多的改進才能夠真正使得本國的實力得到進一步的提升，而這也是之後在不斷努力過程中，需要去達到的一種水準。只要能夠在這一表現當中做出更多的突破，便可以迎來很多的改進，這一點也是很有必要去關注的方面。目前我國已經有足夠的能力和資金在這一方面進行投入，因此在接下來的不斷努力當中，也就可以迎接更多的成果，只要堅持下去就會有更好的改進。