如果不是美國以如此的架勢打壓中國的企業，或許並沒有人會真正在意，中國在芯片製造業已經被國外牢牢的卡住了“脖子”，而由於在上世紀八十年代關於半導體技術與光刻技術的研發沒有趕上好時候，導致我們國家在半導體產業與光刻機制造產業上，與世界的差距被越拉越大，這也使得我們不得不面對一個現實，在光科技這個領域，我們不能僅僅只是喊喊口號，那麼簡單，只有認真做才會有希望。
衡量芯片製造技術，就要從芯片可以在多長波段的光線下刻制電路，波長越小，則芯片也就越小，同樣的體積，所產生的效能 也就越高，而根據近期的報道，中國自主研發的北斗三號芯片，成功的突破了22nm的技術限制，同樣的配套的上海微電子技術也獲得了突破，成功的研發出了22nm的光刻機，該項技術也獲得了突破。
值得注意的是，此前中國的光刻技術一直被限制在90nm的瓶頸裏，與世界主流的芯片製造商所能生產的芯片完全不是一個量級的，不過此次22nm級芯片技術和光刻技術所獲得的突破，正在使得我們的“中國芯”強勢崛起。
這是不是可以説，我們可以與荷蘭的光科技説再見了呢？現實非常的殘酷，但是我們必須要認清現實，之所以説荷蘭有最好的光科技，原因是荷蘭的ASML公司，其所掌握的技術能夠製造十分高端的光刻機，而ASML公司的技術已經到達了4nm級，而我們的才剛剛突破22nm可見這其中的差距。
就拿我國台灣的台積電所掌握的，能夠成熟的使用14nm級別，正在突破7nm技術的情況來看，其技術依舊帶有很多的美國色彩，由於上文中我們提到的美國的限制，這也使得該公司無法在與中國大陸方面繼續開展合作，可見我們的技術雖然獲得了突破，但是還距離真正意義上的先進還有一定的距離。
中國人的性格里面，自來有一種韌勁，這不是自大與自滿，而是你不給我，我就想辦法自己突破，實際上一個現實的事情是，但凡歐美對中國關上大門的頂尖技術，中國都在自己的摸索中，獲得了突破，之前發射的“天問一號”就是被封鎖最嚴重的航天技術的一個縮影，對於我們的芯片也是一個道理，我們必須認識到，我們是落後的，但是我們的努力，也是不能被否認的，我們的“中國芯”還任重道遠着呢。