韓媒：韓國本土企業在 EUV 光刻技術方面取得重大進展

IT之家 11 月 16 日消息 據韓國媒體 BusinessKorea 上週報道，韓國本土企業在 EUV 光刻技術方面取得了極大進展。但並沒有提到是哪一家企業，合理推測應指代韓國整個半導體光刻產業。

▲ 圖源 BusinessKorea

EUV 光刻技術是多種先進技術的複合體，例如多層反射鏡，多層掩模，防護膜，光源和註冊表（registries）。

在過去的十年中，包括三星電子在內的全球公司進行了深入的研究和開發，以確保技術處於領先地位。最近，代工公司（意指三星）開始使用 5 納米 EUV 光刻技術來生產智能手機的應用處理器（AP）。

按公司劃分，全球六大公司的專利申請數佔了總數的 59%，卡爾蔡司（德國）佔 18%，三星電子（韓國）佔 15%，ASML（荷蘭）佔 11%，S&S; Tech（韓國）佔 8%。），台積電（台灣）為 6%，SK 海力士（韓國）為 1%。

從具體的技術項目來看，曝光裝置技術申請專利佔 31%，掩膜技術申請專利佔 28%，其他申請專利佔 9%。在工藝技術領域，三星電子佔 39%，台積電佔 15%。在光罩領域，S&S; 科技佔 28%，Hoya(日本)佔 15%，漢陽大學 (韓國)佔 10%，朝日玻璃 (日本)佔 10%，三星電子佔 9%。

IT之家瞭解到，韓媒還提到了韓國專利數量，據韓國知識產權局 (KIPO)發佈的《近 10 年 (2011-2020 年)專利申請報告》顯示，2019 年，韓國提交的專利申請數量為 40 件，超過了國外企業的 10 件。

韓媒稱這是韓國提交的專利申請量首次超過國外企業。到 2020 年，韓國提交的專利申請也將是國外企業申請的兩倍以上。