研製光刻機到底多難？需集結多國先進技術，美日：中國不可能突破
華為被西方斷供芯片一事，徹底暴露出了中國短板所在，必須要抓緊時間突破光刻機技術，那麼關鍵問題可就來了，中國想要自研光刻機到底有多難？都知道，想要量產出先進芯片，就必須要用到光刻機，這次華為被斷供芯片之後，國內更多呼聲就是開啓芯片自供時代，但國內想要製造出先進芯片，所面臨難度就是缺少光刻機，西方國家也直接表態過了，即使是中國能夠給出天價也堅決不賣。
很顯然，縱觀全球半導體行業最發達當屬美國、日本，但這兩個國家也沒有單獨研製出光刻機的實力，歐洲半導體行業權威專家直接表示，想要研製出光刻機就必須集結多個國家的優勢，其中就包括日本提供特殊複合材料、德國提供蔡司鏡頭技術設備、瑞典的工業精密機牀技術以及美國提供控制軟件等，中國如果想憑一己之力就研製出光刻機，美日兩國直言這簡直就是天方夜譚。
值得一提的是，全球最先進的光刻機單零部件數量就高達100000個，美國科學家耗費數年時間才調試成功，足以證明這才是西方國家最核心的技術所在，俄羅斯戰略專家就直接指出了，光刻機就好比軍備界的“核導彈”，一旦突破的話西方國家將面臨巨大威脅，舉個非常鮮明的例子，一台EUV光刻機售價就高達8億美元，中國曾在2018年訂購了一台，但期間因眾多原因至今都沒有到貨。
但明知道自研光刻機難度重重，中國就能夠放棄嗎？答案顯然是要繼續突破，畢竟這才是中國最被“卡脖子”的技術，如果突破的話就能成功打破西方壟斷，2019年中國進口芯片金額就高達3000億美元，西方國家可以説賺得衣缽盆滿，不過目前中國在自研光刻機已取得初步進展，上海微電成功研製出90nm精度光刻機，若西方國家全面斷供的話，中國工業體系也不會一下子就癱瘓掉，相信再給中國10年時間，一定能夠打破西方國家壟斷。