上海微電子作為我國唯一的光刻機巨頭，如今擁有的直接持有專利與專利申請數量已達3200件，一年的光刻機出貨量超50台，表現令人矚目。但上海微電子當前只能在低端光刻機領域徘徊，在高端領域仍是無法突破ASML的壟斷。雖然上海微電子表示，將在2021到2022年交付28nm immersion式光刻機。
但與目前已能生產5nm芯片的ASML高端光刻機相比，仍有着難以超越的差距。光刻機因極高的研製難度，狠狠地卡住了我國芯片行業的脖子，成為我國想要實現芯片安全可控，必須推翻的一睹大牆。國產光刻機若想要彎道超車，需要克服3大難題，才能有望打破ASML的壟斷。
首先，需要突破的便是技術壟斷。ASML成立於1984年，至今已有36年的時間。在這三十多年裏，與光刻機有關的必要技術，都已被ASML收入囊中，從而形成技術壟斷趨勢。而中國光刻機企業想要從一片空白中突破重重技術壁壘，繞開ASML專利，何其艱難。因此，技術壟斷是擺在中國企業面前的第一道坎。
其次，美國對中國科技企業的重壓，更是成為我國發展的一大阻礙。在2018年，中芯國際便向ASML訂下了一台光刻機，而是如今兩年已經過去，在此期間ASML交付了數十台光刻機，卻唯獨沒有中芯國際的份。在這背後，離不開美方的挑唆，而中芯國際的芯片工藝也因此被拖後。
美國在芯片代工領域如此，而在光刻機領域更是不會放任中國企業的發展。中國光刻機領域行業發展之路本就曲折，還有美國的阻礙，前路更是泥濘。而且，就算在我國高端光刻機取得了突破，還是要提防美國。華為便是一個典型的例子。
最後，ASML光刻機的完成是依靠全球領先科技企業的共同努力。ASML一台光刻機要用到10萬件零件，其中，90%都由其他國家企業提供。由此可以看出，光刻機的生產需要集結全球的力量。雖然我國光刻機沒有必要拿下所有相關技術，但核心技術還是要掌握在自己手中。
這就需要全國半導體企業的共同努力，僅靠一家公司完全不可能打破ASML的壟斷。由此看來，我國光刻機行業的發展道阻且長，需要不斷的突破與完善產業鏈。
你認為，國產光刻機的發展，還有哪些阻礙？