提及光刻機，對晶圓代工領域有所瞭解的消費者都會想到荷蘭的光刻機巨頭ASML。這家光刻機制造商是現階段全球範圍內唯一一家可以量產高端EUV光刻機的廠商，無論是中芯國際等代工領域的新秀，還是台積電、三星等芯片代工巨頭，都不惜斥巨資搶購ASML的EUV光刻機。
不過，雖然目前ASML壟斷了全球光刻機市場，但在其成立之初，光刻機的霸主地位是被日本的諸多光學巨頭握在手中。這是因為，光刻機的原理是用光源把芯片的電路圖投射到塗滿光刻機的硅片上，這個過程中的應用最多的其實是光學理論和技術。
因此，在光學領域佔據重要地位的諸多日本企業，在光刻機制造行業自然獨具優勢，佳能、尼康等光學巨頭，都曾在當年的光刻機制造行業名列前茅。毫不客氣地説，彼時全球範圍內，日本的光刻機技術世界第一，可如今，曾製造光刻機的日本光學巨頭卻被荷蘭ASML踩在了腳下。
那麼，這其中日本光刻機到底經歷了什麼呢？提及此，筆者就不得不説到台積電的一位工程師，這位工程師名為林本堅。林本堅基於水會改變光的波長的理論，創造性地提出了浸潤式光刻法，這一方法是在透鏡和硅片之間諸如水，從而達到改變波長進而提升工藝的目的。
此方法一經提出，就引起了業界激烈的討論，一方認為，如果將這一方法投入使用的話，會將193nm的激光降低至132nm，工藝精度得到大幅提升。而另一方則堅持傳統的光源幹刻法，持這一態度的正是一眾日本光學巨頭。
但恰恰因為日本光學巨頭不看重新技術，才給了當時還算市場新秀的ASML反超的機會。ASML抓住此次機遇，聯手台積電推出了全球首台浸潤式光刻機，憑藉高效且高質量的產品優勢迅速打響了知名度，這家曾不被日本光學巨頭看在眼裏的小廠就此強勢崛起。
值得注意的是，ASML不僅對新型技術有極高的接受度，而且還因為跟台積電的合作萌生出了聯合一眾芯片廠商的想法。有了台積電、三星等巨頭的注資，ASML的發展速度更快，反觀那些堅持傳統工藝故步自封的日本企業，早已被遺忘在時代更迭的洪流中。