可能大家所能夠想到的就是在5納米已經更先進的工藝製程上，沒有了EUV光刻機，那麼我們就無法生產製造芯片了，屆時華為高端手機就要受到影響了。
光刻機
或許我們會容許手機性能方面，沒有必要那麼先進，只要滿足我們日常的需求即可，而以現在的情況來看的話，這個想法自然也不是什麼大問題。
不過，缺少EUV光刻機可僅僅是影響手機的問題，還有其他更多的影響。現在的一些韓國的內存廠商，比如SK海力士，就已經開始為EUV光刻製造做準備，而三星內存生產在使用EUV光刻機方面，則比SK海力士更早，已經開始進入實際操作階段。
光刻機
雖然按照工藝來説，內存芯片製造方面，根本無需使用到EUV光刻機，而且EUV光刻機的價格巨高，但是，使用EUV光刻機卻可以帶來更多的好處，比如，工藝精度的提升，降低DUV多重曝光次數，提前搶佔EUV工藝賽道，還可以降低內存的生產成本以及時間，性能上的提升還可以為贏得市場打下基礎。
光刻機
這是在內存方面，更為關鍵的還是在整個半導體產業鏈上，如果不能實現EUV光刻機的生產製造，本身就是意味着EUV光刻機的產業鏈發展緩慢，自然影響後續的光刻機發展，另外，在整個半導體產業鏈上，我們就有可能面臨被西方國家大幅領先的情況。
現在我們已經落後了，如果不能很好的正視這個差距，導致差距進一步拉大的話，後續追趕起來更難，而造成的產業落後，必然會影響到更多領域的發展，甚至是落後。
光刻機
所以説，不能重視現在的差距，想方設法的在光刻機方面進行追趕，是當前半導體產業發展的關鍵，不能有絲毫的懈怠！