領先全球的中國設備，地位堪比光刻機，成功打破西方壟斷

當下，就算是許多並不算了解半導體行業的人，相信對光刻機也有所耳聞。光刻機是芯片製造過程中所需的重要設備，芯片的最小製程與光刻機的精度有着至關重要的作用。但其實，除光刻機外，還有一種設備非常重要，那便是刻蝕機，二者重要程度可以説是不相上下。

值得注意的是，比起在光刻機領域的落後，我國中微半導體公司的刻蝕機技術卻在全球領先。據公開資料顯示：中微半導體的創始人為尹志堯，他曾在美國半導體巨頭應用材料有過13年的工作經驗，耳順之年的他於2004年創建了這家企業。

理論知識與實踐經驗兼顧的尹志堯在創立公司不久後，便取得了累累的碩果。2007年時，其成功研製CCP刻蝕設備，並順利打入了海外市場。成立不久的中微半導體很快便跟上了業界水平，TSV/MEMS/Dicing刻蝕設備、45nm介質刻蝕設備相繼從其手中問世，展現出了中微強大的研發實力。

中微半導體的成功，代表着中國又在一個領域打破了西方的壟斷。在多年發展中，其產能逐漸擴大，在2005與2012年，中微半導體分別建成了6500㎡和22000㎡的廠房。到2015年時，中微半導體的反應台交付量已經成功達到了400台，其營收也進一步增長，成長速度令人矚目。

而在近年來，中微半導體一直一步一個腳印立足於研發。從45nm介質刻蝕機到22nm，其用了2年的時間。從22nm到14nm也用了將近兩年的時間。但是，從14nm到7nm其卻用了不到一年的市場，便研製成功。而在2019年時，其5nm刻蝕機也順利交付，為今年5nm芯片的問世注入了一份力量。

當前，中微半導體已經做到了領先全球，其在集成電路和泛半導體設備研製領域，都走在了業界的前列。同時，中微半導體的MOCVD設備與VOC淨化設備也相當了得。在去年，中微半導體成功於科創板上市，為首批上市公司中的一員。自此，中微的發展又走到了一個新的階段。

在2019年，中微半導體創下了19.47億元的營收。其中，其淨利潤增長尤為迅猛，與去年同期相比，增長了107.51%，達1.89億元。接下來，中微半導體又將有怎樣的表現，十分值得期待。對於中微半導體，你怎麼看呢？