厲害！中國南大光電光刻膠測試取得突破，打破美日的技術壟斷！

從近幾年的發展，我們可以預示到未來的發展會是怎樣的，確實這幾年來我國對於芯片上的研製投入的比較大，其目的就是為了能夠研製並生產出先進的芯片，讓我國不再受到其他國家的限制，能夠實現獨立自主的生產，出屬於我們國家的智能設備，對於芯片的生產來説，大家應該都知道有一個最為重要的設備，那就是光刻機。

光刻技術發展緩慢是我國芯片生產技術始終沒有取得特別大成就的原因之一，因為如果我們沒有高端的光刻機，那麼我們也就無法生產出現今的芯片。

2020年5月15日美國發布的聲明，其實已經集中了我國芯片發展的弱點，因為我國在芯片生產生存在很大的問題，我國目前能夠生產出來的芯片並不是特別的現金，達不到我們的要求，所以我們只能夠交給其他企業代為生產，但是我們所交付的這些企業，他們用到了美國的技術，這才是最大的問題。

所以説如果我們想要迎來突破，不受其他國家的限制，那麼我們就要對光刻機進行研究，而且要儘快取得突破。

相信很多人都知道，光刻機對於半導體來説有多麼的重要，但是卻不知道，光科教與光刻機幾乎是同等的重要，如果一個國家擁有了先進的廣告機，但是卻沒有光刻膠，那麼也是沒有用的。

所以説攻克交際書也是非常重要的，但光刻膠技術主要被美國和日本壟斷，我國的光刻膠，之前只能達到436納米和365納米的水平，只能用在低端的工藝上。

但我國得到了一個好消息，因為我國的南大光電錶示他們公司的ARF光刻膠正在接受客户的測試，如果這一次的測試達到了客户的要求，那麼他以為是我國在這一項技術上取得了重要的突破。

這一突破其實也就是將美國和日本的光刻膠技術壟斷市場進行了打斷，讓我國在這一市場上佔據了一席之地，未來能夠向更高端的光刻膠與突破，南大光電在國產ARF光刻膠上取得的突破，讓日本、美國都傻眼了。