半導體它是一種電導率在絕緣體至導體之間的物質，它其中的電導率容易受控制，但也是作為信息處理的元件材料。芯片則是半導體裏的一個集大成者，而現在芯片的利用率非常的高，必然，如果要想有一些技術領域的突破，就勢必要在芯片領域有所發展。
那讓我們瞭解一下光刻機，光刻機又名，掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等等。常用的光刻機是掩膜對準光，所以叫 Mask Alignment System。簡單明瞭的説，光刻機就是在製造芯片時是一個不可或缺的工具，因為沒有光刻機就等於沒有芯片。
荷蘭的大多部分芯片公司都是使用其ASML進行締造的，並且得到了EUA光刻機的支持，以用於芯片締造技術。該光刻機的技術發展非常的先進，再加上荷蘭公司已經在很多方面供應了支持，因此光電子學的發展有了巨大的進步。他們的公司可以製造可以達到5納米的芯片，而這種技術在全球範圍內得到了寬泛報道。
目前中國唯一可以締造光刻機的廠商是位於上海，上海微電子，也是目前中國獨一無二的光刻機締造廠商。上海微電子與荷蘭ASML的成立時間有較大的差別，時間於2002年是上海微電子的成立，而時間於1984年是荷蘭的ASML的成立，對比來説，1984-2002，我國光刻機的研發起步晚了荷蘭近20年，但是沒關係，上海微電子成立以來發展較快，正在全力追趕荷蘭ASML。
歷經多年的自主創新不斷髮展進步，目前我國上海微電子已經掌握了先進封裝光刻機，高亮度LED光刻機等高端智能製造領域的先進技術！隨着我國越來越多的才子，目前上海微電子人才隊伍和管理團隊也逐漸擴大。
雖然目前我國光刻機跟荷蘭光刻機還是有一定的差距，但是上海微電子也不會停止進步的腳步，上海微電子也正在全力追趕着，願儘量早日能成為頂尖機器！但是這種頂尖機器的研發需要長期的技術累積，絕不是一蹴即至的。祝願我國發展越來越好！