韓國：極紫外光刻專利連年增長 硬件相關領域成果亮眼發佈於: 科技2021-01-11標籤: 韓國韓國科學技術院超低功耗韓國知識產權局本文轉自【科技日報】；本報駐韓國記者 邰舉 韓國知識產權局發佈的報告顯示，過去10年來，向該局申請極紫外（EUV）光刻相關專利的韓國企業數量連年增長，其中2019年的50件申請中，韓國企業提交了40個