中科院研發新型激光光刻技術:不用EUV 直擊5nm
荷蘭ASML公司是全球唯一能生產EUV光刻機的公司,他們之前表態7nm以下工藝都需要EUV光刻機才行。現在中科院蘇州納米所的團隊開發了一種新的激光光刻技術,不需要使用EUV技術就可以製備出5nm特徵線
荷蘭ASML公司是全球唯一能生產EUV光刻機的公司,他們之前表態7nm以下工藝都需要EUV光刻機才行。現在中科院蘇州納米所的團隊開發了一種新的激光光刻技術,不需要使用EUV技術就可以製備出5nm特徵線
(本文首發騰訊科技,未經許可,請勿轉載;全文共3200字,完全閲讀需5分鐘) 劃重點: 以下為正文: 5月5日,中國最大的晶圓代工廠中芯國際宣佈迴歸A股,確定科創板上市,擬發行16.86億股