中微公司發佈用於深紫外LED量產的MOCVD設備Prismo HiT3™
中微半導體設備（上海）股份有限公司，今日宣佈推出Prismo HiT3™ MOCVD設備，主要用於深紫外LED量產。該設備目前已進入全球大多數領先的藍綠光LED製造商，此次推出的Prismo HiT3™是中微Prismo系列MOCVD設備的最新產品。是適用於高質量氮化鋁和高鋁組分材料生長的關鍵設備，反應腔最高温度可達1400度，具有優異的工藝重複性、均勻性和低缺陷率。該設備同時也為高產量而設計，單爐可生長18片2英寸外延晶片，並可延伸到生長4英寸晶片。（科創板日報）
版權聲明：本文源自 網絡， 於，由 楠木軒 整理發佈，共 235 字。