光刻機：半導體工業皇冠上的明珠。光刻工藝定義了半導體器件的尺寸，是芯片生產流程中最複雜、最關鍵的步驟。光刻機是光刻工藝的核心設備，也是所有半導體制造設備中技術含量最高的設備，集合了數學、光學、流體力學、高分子物理與化學、表面物理與化學、精密儀器、機械、自動化、軟件、圖像識別領域等多項頂尖技術。光刻的工藝水平直接決定芯片的製程和性能水平。
光刻機的演變及歷史性轉折。根據所用光源改進和工藝創新，光刻機經歷了5代產品發展，每次光源的改進都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。在技術節點的更新上，光刻機經歷了兩次重大變革，在歷次變革中，ASML都能搶佔先機，最終奠定龍頭地位。
頂級光刻機的尖端工藝。目前業內最先進的是採用波長13.5nm極紫外光的第五代EUV光刻機，可實現7nm工藝製程，技術要求極高，單台價值為1.2億歐元，ASML成為全球唯一一家能夠設計和製造EUV光刻機設備的廠商。