第二代EUV光刻機正在研發,用來生產1nm工藝芯片,成本或創新高!發佈於: 科技2020-07-10標籤: 創新高光刻機1nm用來 目前荷蘭ASML量產的EUV光刻機只是第一代產品,已經可以實現5nm工藝及未來3nm工藝芯片的生產,今年我們就可以從華為麒麟1020和蘋果的A14芯片上看到EUV光刻機的真正實力(上一代7nm eu