中科院首創2納米芯片關鍵技術，還依賴光刻機嗎？中國芯片迎轉機

今天跟大家聊一聊：中國在芯片領域可以説一路波折，由於缺乏關鍵設備光刻機，我們在該領域也很難有所突破，那中芯國際是如何逆轉實現量產14納米芯片的呢？並掌握2納米的關鍵技術的，本期我們就來一起了解一下。

我們在科技領域一直在打壓了幾十年，這也讓我們相關領域的技術始終無法突破，而作為製造芯片的關鍵設備EUV光刻機，我們目前掌握的精度最高的僅僅是45納米級別的，就連28納米的技術我們也在研發當中，可想而知我們在這個行業走的是多麼的艱難。

而作為這項技術的主導者，荷蘭在20年前就已經掌握了相關技術，目前他們的第五代EUV深紫外7納米光刻機已經投入市場使用了，全球也只有他們掌握了此項技術，而中國目前也成為了全世界芯片消耗最多的國家。

我們在該領域的投資也超過了1.5萬億，所以我們渴望擁有這樣一台高精密的光刻機，那這樣一台光刻機究竟難在哪裏呢，為何我們至今沒有任何進展呢？

第五代EUV深紫外7納米光刻機，是由上萬行計算機代碼以及數萬個高精密部件組成，誤差能夠達到一根細絲的千分之一，因此它也得名半導體行業皇冠上的明珠，要想自主研發出7納米的芯片，就必須要擁有這樣一台7納米光刻機，不同級別的光刻機直接決定了芯片的等級。

目前我們從荷蘭進口最新光刻機的計劃也在實施之中，但是在這個過程中並沒有那麼的順利，在2018年荷蘭光刻機工廠發生大火之後，我們花8.2億天價購買的光刻機是否按時交到我們手上，也成為了一個謎團，而最新得到的消息是荷蘭出口EUV光刻機到中國的許可已經到期了，現在也沒有續約的消息傳出，這也導致這個訂單進一步被拖延。

如果沒有這個關鍵設備，那麼中芯國際在製造7納米芯片的過程中，將會遇到很大的阻礙，那我們是否還有機會趕超呢？而根據中芯國際透露，目前國內首條14納米的生產線已經在上海正式投入使用，已經實現了量產，而下一代的12納米的芯片工藝也將實現，一旦實現耗能會比14納米下降20%，性能整整提升10%，而目前荷蘭光刻機也一直正常向我們供應，毫無疑問這時明智的選擇，這將起到雙方共贏的局面。

隨後中科院也傳來了好消息，在全球都處於7納米階段的研發的時候，中國科學家研發了一種全新的垂直納米環柵晶體管，它也被視為下一代2納米級別芯片的關鍵技術候選，這一項研究成果也被刊登在了國際微電子器件領域的頂級期刊上，並且成功獲得了專利授權，目前我們在芯片的研發上已經處於世界頂尖水平，華為和中興都已經實現了自主設計的5納米芯片工藝，但是最終卡在了生產製造上面。

有了這方面的成就之後，這將大大提升我們在芯片領域的不足，這是獨一無二的技術，而值得一提的是台積電也突破了3納米環柵晶體管，這也意味着中國在芯片領域的製造，即將邁入一個全新的時代，2納米芯片的製造生產預計將於2024年投入使用，這或許又是中國在高科技領域的又一個里程碑，在半導體領域我們也將慢慢實現趕超，不再處處受人操控，對此大家有什麼看法呢？歡迎在留言探討。