由於美國接二連三地阻撓我國企業發展，使得中國半導體進口遭遇阻礙。但是塞翁失馬焉知非福，美國的制裁令出臺之後，中方企業並沒有選擇就此放棄。面對困境，多家科技公司紛紛投入資金和人才，尋求自身力量解決半導體原材料的供貨問題。
能夠看到我國已經取得不錯的成就，寧波南大光電材料有限公司表示，他們已經在光刻膠領域取得突破性進展。這意味著我國將會在7nm晶片製造上更進一步，有望儘快問世，而這對於我國來說無疑將會是一個重大的利好訊息。
根據新浪財經的訊息指出，寧波南大光電發來喜訊，表示ArF光刻膠生產線已經投入執行，表示能夠在量產後達到十萬的銷售額。此則訊息一出，讓許多人感到欣喜若狂。畢竟長期以來我國在半導體領域上，技術水平和生產能力都不強。有了南大光電的這條生產線，證明我國確實有能力在短時間內追平世界差距。雖然離頂尖水準有差距，但是至少證明我國在美國的制裁之下，在半導體領域上並非“毫無還手之力”。
由於我國早期的政策重心放在經濟發展上，將人才和資金都放在經濟建設上，使得一些尖端領域發展速度頗為緩慢。光刻膠作為積體電路生產的核心材料，由於早期科研資金研發不足的問題，導致我國生產的光刻膠產品只能夠投放在低端市場。雖然G線、I線等品種，能夠保證我國在低端光刻膠市場有一席之地，但遠遠不夠滿足中國科技企業的需求。
要想真正能夠在光刻膠市場立足，發展ArF光刻膠等高階光刻膠產品便非常重要。能夠看到我國電子科技企業在選購高階光刻膠產品的時候，大部分的品牌都來自於外國。高階光刻膠，基本上我國都依賴於進口。據報道，從19年開始，我國光刻膠生產企業總銷售額已突破70億元大關。在全球市場總份額上，雖然我國的總佔有額達到10%，但是都集中在低端市場上。
由於不熟悉市場，自身技術發展又有所欠缺，我國只能夠摸著石頭過河優先發展低端市場。在保證自身發展有一定市場話語權之後，才能夠穩步向高階市場進軍。能夠看到當代的高階光刻膠市場份額，有95%都握在美國和日本企業的手上。不過市場瞬息萬變，沒有永遠壟斷市場的“霸主”。我國企業做好充足準備之後，已經開始向高階市場進軍。
能夠看到晶瑞股份、上海新陽、南大光電等企業，都在不斷鑽研如何實現量產化高階光刻膠。自17年南大光電率先宣佈ArF193NM光刻膠專案啟動以來，就不斷有中國企業加入到高階光刻膠生產技術的研發活動來。南大光電依靠自身人才和技術，而晶銳股份則選擇透過“外力”獲取生產高階光刻膠的技術。自今年九月購入SK海力士的二手ASML光刻機裝置以來，晶銳股份已經擁有生產高階光刻機的能力。
相較之下，中芯國際的晶片製程工作便有些過慢。由於自身自主生產的晶片製程最多隻有14nm，再加上荷蘭ASML公司遲遲不交付EUV光刻機，使得他們的晶片製程發展速度落後於其他兩家企業。
當然從現階段來看，中芯科技手中有優秀的人才和充沛的資金，向高階市場進軍也僅僅只是時間問題。我國企業在面對美國封鎖的情況之下，都沒有選擇放棄發展的可能性，而是迎難而上不斷解決問題找到突破的口子。從這點上來看，我國未來在晶片領域的發展形勢自然是非常良好。