近期，隨著美國加強對華為的出口管制、華為只剩120天緩衝期，之後其晶片代工就將處於美國的嚴防死守之下的種種爆炸性訊息的公佈，國人再次意識到了在關鍵領域“自研+去美化”的重要性。因此，光刻機和半導體等與晶片代工“相鄰”的話題，在近日成為不少科技圈人士尤為津津樂道的話題。
而生產光刻機的核心部件之一——光刻膠，也理所當然地進入了國人的視線。提及光刻膠，就不得不說一下國內唯一一家擁有ASML曝光機的光刻膠公司——北京科華微電子材料有限公司。作為目前國內唯一擁有高檔光刻膠自主研發及生產實力的國家級高新技術企業，科華微電子成功打破日美等國家的壟斷，突破技術封鎖，在世界半導體光刻膠領域搶佔一席之地。
據公開資料顯示：北京科華微電子成立於2004年，是一家集光刻膠研發、生產、檢測和銷售於一體的中外合資企業，曾經在2017年躋身SEMI全球光刻膠企業的前十名。而發展到如今，北京科華微電子在半導體光刻膠領域已是頗有建樹。
不論是最低端的G線、i線光刻膠領域還是KrF光刻膠領域，北京科華微電子都已經實現量產。其中，北京科華微電子量產的技術要求僅次於ArF的KrF-248nm光刻膠，更是代表著國內目前最先進的光刻膠研發與生產水平。
而在KrF光刻膠領域，僅是日本廠商佔有率便高達80%，所以能在日美廠商的圍追堵截中殺出重圍，北京科華微電子的實力足以令人讚不絕口。更令人意外的是，在多年來堅持自主創新的理念灌輸下，如今科華微電子已經在高階晶圓加工應用、先進封裝應用等多個領域積累了深厚的技術基礎。
另一方面，憑藉著國內領先的實力，北京科華微電子也將中芯國際、華潤上華以及吉林華微電子等國內半導體行業的頂尖客戶收入囊中。
在2019年7月，科華微電子更是獲得了由紫荊資本、沃衍資本以及江蘇盛世投資等多個投資機構合計共1.7億元的投資。此外，在高階光刻膠領域，北京科華微電子和南大光電等企業，也都早已投入ArF光刻膠的研發。
不過根據5月22日的訊息來看，南大光電先行一步，其研發的ArF光刻膠已經按計劃開始進行客戶測試。結合之前南大光電在2017年許下的計劃用3年時間實現ArF光刻膠的建設、投產和銷售的目標來看，北京科華微電子後續要加快腳步了。