中國公司砸下7100萬“巨資”，終於買回了一臺光刻機

光刻機是晶片製造過程中，最為核心的裝置之一，而光刻機的精度，也決定著晶片的效能和先程序度。由於我國還沒有研製出先進光刻機，因此整個半導體產業都受限於人。

目前在全球具備生產先進EUV光刻機的企業只有一家，便是荷蘭ASML公司，三星、臺積電和中國大陸的中芯國際所使用的光刻機，都是向ASML購買的。

但是受到《瓦森納協定》的制約，中國大陸公司從未購買過ASML的先進光刻機，能夠買到的往往都是比較落後，甚至已經淘汰的DUV光刻機。

日前，國內半導體材料公司晶瑞股份就在ASML公司手裡買到了一臺光刻機。

根據晶瑞公司釋出的宣告顯示，該公司購入了ASML公司光刻機一臺，將用於高階光刻膠專案。

據瞭解，晶瑞公司採購的這臺裝置為ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻機，只能用於研發最高解析度達28nm的高階光刻膠，考慮到三星、臺積電5nm工藝都已經量產，說明這臺光刻機真的很落後。

目前ASML公司官網上列出的沉浸式光刻機，最舊的型號是XT 1965 CI，可以用於20nm以下的工藝。也就是說，晶瑞公司買來的這臺光刻機分明就是人家淘汰的產品。

不過晶瑞公司買下這臺光刻機，卻花了1102.5萬美元，相當於7127萬人民幣，如此昂貴的價格，買回來的還是人家淘汰的東西，說明人家真的不願意將高階貨賣給你。

雖說喜提光刻機一事讓人興奮不已，是ASML公司的光刻機也不假，但這臺光刻機和中芯國際那臺拖了2年多的EUV光刻機根本不是一回事，中芯國際那臺光刻機的價格至少是晶瑞公司這臺的10倍。

那為什麼晶瑞要花這麼大一筆錢買臺落後的機器呢？根據晶瑞公司的說法，購買這臺光刻機是公司積體電路製造用於高階光刻膠研發專案的必要實驗裝置，為了研發出更高階的ArF光刻膠。

其實光刻膠跟光刻機一樣，都是我國半導體產業卡脖子的環節，光刻膠可以被歸於高值耗材一類，隨著晶片工藝越來越複雜，出現了雙重，甚至三重、四重曝光的技術，意味著製造單個晶片消耗的光刻膠也會增加。

所以晶瑞花巨資購入落後光刻機，意義也是巨大的，如果進展順利的話，這臺光刻機有助於晶瑞將光刻膠產品序列實現到ArF光刻膠的跨越，並能夠實現應用於12英寸晶片製造的戰略佈局。

儘管這臺光刻機非常落後，價格也不便宜，但這是中國半導體產業的必經之路。我始終堅信，只有腳踏實地的一步步幹，未來才有希望不受限於人！

對此你怎麼看呢？