楠木軒

EUV光刻機,不但影響處理器效能,還影響記憶體生產

由 希學英 釋出於 科技

可能大家所能夠想到的就是在5奈米已經更先進的工藝製程上,沒有了EUV光刻機,那麼我們就無法生產製造晶片了,屆時華為高階手機就要受到影響了。

光刻機

或許我們會容許手機效能方面,沒有必要那麼先進,只要滿足我們日常的需求即可,而以現在的情況來看的話,這個想法自然也不是什麼大問題。

不過,缺少EUV光刻機可僅僅是影響手機的問題,還有其他更多的影響。現在的一些韓國的記憶體廠商,比如SK海力士,就已經開始為EUV光刻製造做準備,而三星記憶體生產在使用EUV光刻機方面,則比SK海力士更早,已經開始進入實際操作階段。

光刻機

雖然按照工藝來說,記憶體晶片製造方面,根本無需使用到EUV光刻機,而且EUV光刻機的價格巨高,但是,使用EUV光刻機卻可以帶來更多的好處,比如,工藝精度的提升,降低DUV多重曝光次數,提前搶佔EUV工藝賽道,還可以降低記憶體的生產成本以及時間,效能上的提升還可以為贏得市場打下基礎。

光刻機

這是在記憶體方面,更為關鍵的還是在整個半導體產業鏈上,如果不能實現EUV光刻機的生產製造,本身就是意味著EUV光刻機的產業鏈發展緩慢,自然影響後續的光刻機發展,另外,在整個半導體產業鏈上,我們就有可能面臨被西方國家大幅領先的情況。

現在我們已經落後了,如果不能很好的正視這個差距,導致差距進一步拉大的話,後續追趕起來更難,而造成的產業落後,必然會影響到更多領域的發展,甚至是落後。

光刻機

所以說,不能重視現在的差距,想方設法的在光刻機方面進行追趕,是當前半導體產業發展的關鍵,不能有絲毫的懈怠!