我國晶片製造關鍵裝備獲突破

本文轉自【中國青年報】;

來源:中國青年報 ( 2021年03月18日 07 版)

本報北京3月17日電(中青報·中青網記者 邱晨輝)記者今天從中國電子科技集團有限公司獲悉,該集團旗下電科裝備已成功實現離子注入機全譜系產品國產化,可為全球晶片製造企業提供離子注入機一站式解決方案。

離子注入機是晶片製造中的關鍵裝備。電科裝備連續突破大流強長壽命高品質離子源、高速晶圓傳輸等“卡脖子”技術,自主研製中束流、大束流、高能、特種應用及第三代半導體等離子注入機,工藝段覆蓋至28nm,累計形成核心發明專利413項,實現我國晶片製造領域全譜系離子注入機自主創新發展,有效緩解我國晶片製造領域斷鏈、短鏈難題。

來自中國電科的訊息稱,下一步,電科裝備將瞄準高階,緊跟先進工藝發展,加快推進適用於更先進工藝節點離子注入機的研發及產業化。

2021年03月18日 07 版

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