我們就拿英特爾的14nm晶圓廠來計算，現在14nm晶片生產線一般都是用193mm的DUV光刻機，而一臺DUV光刻機的價格基本都在6000萬美元以上，如果需要30臺這樣的光刻機，那麼，僅僅是光刻機的費用就在近20億美元，而且產能越大需要的光刻機數量越多，當然，在晶片生產過程中，也不是每一次都需要用到最先進的光刻機，比如製造7nm euv和5nm晶片用到的euv光刻機，也不過是中間幾次曝光才會用到。不過可以想象的是，未來euv光刻機用的越來越多，那麼購置成本也會直線上升，畢竟一臺euv光刻機的價格就高達上億美元。
晶圓廠的佔地面積一般都不小，僅僅是廠房的投資至少就在10億美元以上，這裡面除了一些基礎建築以外，還包括超淨室，供電裝置、換氣裝置和冷卻裝置等等，全部都是高標準建造，和一般的廠房沒法相提並論，而且因為晶圓和相關裝置非常經密，所以廠房的抗地震標準設得很高，地基一般也會打的非常深，這些都會增加建廠的基礎費用，一座大廠光基本建設費用幾十億也不為過。
除了廠房配套和光刻機以外，晶圓廠還需要上百種配套裝置，而且這類裝置型號眾多，只有和光刻機一起搭配使用才能完成晶圓的生產，而晶片的後期還需要各種檢測裝置來保證質量和良品率，這些裝置便宜的有幾十萬美元，貴的上百萬也很正常，雖說單價比光刻機便宜多了，但是數量一上去，耗資十多億也不是難事。
拋開晶圓廠的建設費用和裝置費用，每年的用電量也非常驚人，如果突然斷電更是超大的損失，所以晶圓廠的用電穩定性非常關鍵，之前三星的一個晶圓廠就因為電量供應斷掉而損失上億元，此外，晶圓廠的高新技術人員的工資水平也是比較高的，這些都大大提升了一家晶圓廠的投資成本。