芯片的制造少不了ASML生产的光刻机，其中目前最先进的当属ASML旗下的EUV光刻机，比如麒麟990 5G芯片就是使用了7nm euv工艺，由台积电代工制造，未来也会有更多的PC芯片和手机芯片使用这一工艺。但是很多人可能没有想到，如今连内存颗粒生产也都要用上EUV光刻机了。
EUV光刻机的单价不菲，一台就要上10亿美元，当然，这类光刻机的前期研发和设计也是三星、台积电和Intel共同参与的，如今后者都购入了数量不等的EUV光刻机用于生产各类芯片。然而内存颗粒为了提升存储密度，也必须及时使用最先进的半导体工艺，在三星之后，SK海力士也准备购买EUV光刻机。
SK海力士作为全球第二大内存颗粒供应商，目前已经在研发1x nm工艺的内存，内部代号“南极星”，具体节点大概在15nm，预计会引入EUV光刻机生产。而三星将从第四代10nm内存颗粒或部分高端14nm内存颗粒开始全面导入EUV光刻机生产，进度明显比SK海力士要快。
对于内存颗粒来说，相比之前的深紫外光刻机，EUV光刻机可以减少多重曝光工艺，提升工艺精度和良品率，从而可以减少生产时间、降低成本，并提高性能。因此，尽管EUV光刻机10亿美元一台的初期成本很高，维护费用也不可小觑，但是可以通过后期的内存颗粒大批量生产来摊薄成本，长远来看也有利于内存的降价。