目前芯片领域，已经成为半导体行业当中最能够代表一个企业或是一个国家科技水平的标准。而作为生产芯片必不可少的工具光刻机，也受到了很多人的关注。不过众所周知，目前能够具备7纳米工艺制程的光刻机，也仅仅只有荷兰一家公司拥有而已。伴随着华为遭到美国禁令的升级，越来越多的国内友商开始关注于国内半导体行业的发展。遗憾的是到目前为止，国内的芯片生产技术仍然停留在15nm。
这两年国内的半导体行业几乎没有太过明显的跳跃式发展，最大的原因就在于国内缺乏光刻机。其实在2018年的时候，我国就已经向荷兰订购了极为先进的EUV光刻机，但是到现在为止都没有完成交易。最主要的原因就是因为美国一直从中进行干涉，一方面限制荷兰该企业向亚洲地区输送光刻机，另一方面又利用自己在国际上的地位，竭力的遏制国内半导体行业的发展。
可能很多朋友都感到好奇，对国内目前的科技水平，既然没有办法从外寻求，为何不尝试自己生产？光刻机作为生产芯片的一个重要工具，研发难度系数是非常的高。并非是我国不愿意进行自己生产，而是因为以目前国内的技术，根本就达不到这样的程度。在此之前，日本和美国也曾经先后进行尝试自行研发光刻机，遗憾的是最终都以失败告终。
光刻机的研发难度主要在于两点，首先它的零件几乎是来自世界各地最杰出工艺进行打造的。其中一些重要的零件来自于日本，荷兰，德国以及美国，任何一个零件都需要做到精益求精。而且这些零件售价极为昂贵，一般很难买得到。最关键的还是第2点，其实光刻机说白了，就是将各种零件进行组装而成，但是如何组装却需要很高的技术难度。
荷兰方面曾经表示，即便是把光刻机的设计图公布于众，也没有任何一个企业能够使用相同零件的情况下组装成功。国内之所以没有办法自主研发功光刻机，最大的原因就在于这里。仅仅只是拥有相应的零件和图纸，还远远不够，最大的难度还在于这些零件的组装技术。以当下的情况来看，我国目前对于光刻机的需求，仅仅只能够通过进口获得。