今天跟大家聊一聊：近些年来中国在半导体领域接连迎来好消息，两大中企齐齐发力，在光刻机的研发上迎来了重大突破，光刻机国产化的道路也越走越顺。我们又迎来了什么技术的突破呢？
中国在半导体领域虽然起步落后了，但是近些年的发展也足够让我们惊讶，在半导体芯片的国产化道路上，随着相关技术的突破，对于中国高科技的发展有着极其重大的意义，而目前我们要攻克的就是半导体领域最为关键的光刻机，根据相关消息显示，目前我们最为先进的制程工艺，已经从原来的90纳米突破到了28纳米，而其中的大功臣就是国内著名的电子设备制造公司——上海微电子，此次技术的突破，也意味着我们在半导体领域不再完全受制于人，国产光刻机也迎来了历史性的时刻，研发出更为先进的光刻机也只是时间问题。
光刻机可以说是半导体领域皇冠上的明珠，目前全球最为先进的光刻机，均来源于荷兰的ASML公司，他们拥有了最为先进且独一无二的技术，中国对于芯片制造工艺的研发，也都要依赖于他们最新的光刻机。而我们未能拥有5纳米芯片的制程工艺，就是因为缺少了先进光刻机的辅助，而光刻机的研发难度也是空前绝后的，这也导致了中国在光刻机的研发技术上处于落后状态。
随着美国对我们实行了芯片禁令，我们想要进口他们最为先进的光刻机，也受到了处处的限制，此前中芯国际花高价购买的光刻机，到目前为止两年多过去了，仍然没有得到任何出货的消息，这也让中国在半导体领域的发展遇到了瓶颈，现在我们最为关键的就是加大研发力度，尽早突破光刻机的相关技术，以达到世界顶尖水平，不再处处受到限制。
上海微电子致力于光刻机相关技术的研发，也成为了国内知名的光刻机制造企业，在国内的市场他们占据了80%的份额，由此也奠定了他们的地位，在光刻机的研发上起了极大的促进作用，要知道所有关于光刻机的技术，西方国家都是严密封锁的，就连任何的公开交流都没有，上海微电子的成功，也制定了国产光刻机的规范。
而上海微电子能够取得这样的成就，不得不提的就是华卓精科，虽然它的名字显有人提起，但是他却是不折不扣的光刻机巨头，两家企业进行了强强联合，我们在半导体领域才有了这样的成就，目前已经完成了光刻机的自主研发生产，目前部分产品已经正式商业化，还成为了拥有双台核心技术的光刻机企业，这项技术也是除了ASML公司，其它公司不曾拥有的。
芯片的生产制造，是目前高科技领域最为复杂的一个过程，要想完成整个的芯片制造，不仅仅拥有一个光刻机就够了，还要拥有蚀刻机、离子注入机等等，经过多方的配合之后，一块完整的芯片才能生产制造出来。面对这样一个复杂的工程，近些年经过科研人员的努力，不仅仅在光刻机上取得了成就，目前我们的蚀刻机已经处于世界顶尖水平了，而在高能离子注入机制造工艺上，我们也完成了前所未有的突破。
目前我们在半导体领域的研发也遇到了一定的困境，美国禁止了国内高科技企业和中国的一切合作，他们这么做的目的，就是为了限制中国在半导体领域的发展，否则他们花大半个世纪建立起来的优势，也终将被我们所取代，国产高端芯片一旦诞生，他们将面临巨额的亏损。
面对这样的措施，中国科研人员从来没有怕过，不断地进行创新，目前我们在该领域所取得的成就，也足以证明我们的能力，高端光刻机迟早要被我们研发出来的，让我们拭目以待吧。