据日经中文网10月10日最新报道，日本知名化工巨头富士胶片公司（Fujifilm）与住友化学（Sumitomo Chemical）发布了最新消息，该司将加紧投资，争取在2021年内布局新一代半导体材料的生产业务。据悉，尖端半导体生产技术被称为“EUV（极紫外线）”光刻，光刻胶等新材料可用作此时的感光材料。
按照公开的初步计划，富士胶片将投资45亿日元（折合约2.8亿元人民币），为其在日本静冈县的工厂引进设备，最早2021年内开始量产半导体尖端材料。据悉，富士胶片材料有把握将新材料做到，应用在生产工序中减少残次品的作用，此举将让量产尖端半导体变得更加容易，有望促进智能手机等电子设备的小型化和省电化。
要知道，光刻胶是生产制造集成电路的核心材料，其质量和性能对于影响芯片最终的成品、性能等具有重要影响。因此，在半导体生产过程中，若富士胶片能将光刻胶等新材料的作用进一步升级，对于全球半导体产业的更替将具有重要意义。
而除了富士胶片以外，另一家日本巨头住友化学也计划要在2022年度之前在大阪市的工厂构建一条从开发到生产的供应链。据此，住友化学将利用其在传统型感光材料市场上占有的高份额，进一步开拓市场。报道称，已有大型半导体厂商发出了采用新材料的信号。
在当前多国都趋之若鹜的7nm、3nm芯片工艺领域，高端光刻胶是这些工艺实现重大突破的“最大绊脚石”。公开资料显示，在高端光刻胶等极紫外感光材料领域，日本企业掌握了全球将近90%的市场。其中，JSR和信越化学工业这两家日企占据优先地位。
而自去年7月遭到日本断供之后，韩国也已经提高警惕。今年5月下旬，韩国科学和信息通信技术部（MSIT）已经宣布，将在未来5年内投资950万美元（折合约6360万元人民币），发展 5nm以下半导体光刻工艺的材料技术。
作为全球数一数二的半导体市场，我国光刻胶材料更是需求高涨。数据显示，2019年中国光刻胶市场本土企业销售规模约70亿元，在全球的市占率约为10%。然而，为了进一步掌控全球半导体市场，美国今年依赖进一步加紧了其半导体设备以及相关材料的出口，还在 近期规定不准美企与中芯国际做买卖。
为了应对来自美国的打压，中芯国际已加紧行动，从来自美国、欧洲、日本等国家和地区的供应商加大半导体设备采购。智通财经指出，中芯国际此番的采购规模已超过2020一整年的需求。而不难想象，若日本在尖端半导体材料有所突破，届时中芯国际或将转向日本追加订单，美国的计划也将失效。
据美通社报道，今年9月下旬，富士胶片（中国）投资有限公司总裁武冨博信曾公开表示：“中国已是世界第二大经济体，富士胶片也将中国视为最重要的市场之一，未来将继续在华拓展业务。”
文 |廖力思 题 |徐晓冰 图 |饶建宁 卢文祥 审 |程远