黃瓜樹式栽培是一項綜合技術集成的產物，其主要關鍵技術包括：温室綜合環境調控與管理，根際環境的調控與管理，營養生長與生殖生長控制與轉化等。
1.温度
黃瓜是依靠低温促進雌花分化和發育的，以夜間温度影響最為明顯，在一定的範圍內低夜温有利於雌花分化。温室晝夜變温管理，可使黃瓜充分發育。因此，在黃瓜的栽培管理上，保持--定的晝夜温差是温室管理的核心。白天的温度要能保持葉片進行光合作用，夜間的温度應能保證把白天葉片所產生的光合物質輸送到發育最旺盛的部位，即需要保持最適宜的温度使同化物質能夠充分地輸送到作物的莖尖、根部和果實。研究表明，黃瓜樹培育過程中以晝温25 ~28°C、夜温15 ~ 18°C為宜。
2.光照
黃瓜是對光照較為敏感的作物，光照飽和點為2萬~3萬lx，補償點為2000 lx，華北地區夏季晴天光照最高為10萬lx，冬季為4萬lx。因此，一方面要選擇適宜的覆蓋材料，避免夏天高温強光；另--方面，要增強温室的透光效果，減少結露，保持温室的透光率在60%以上，透光率過低或遇上連陰雨雪天氣，應考慮採取補光措施，以滿足黃瓜的生長需要。
3.濕度
一般情況下，較高的空氣濕度，有利於黃瓜的光合作用，對其生長有利。但過高濕度容易誘發各種病害。在黃瓜生長髮育過程中，較適宜的相對濕度為60%~ 80%，高限不要超過90%。在夏季通過濕簾一風機系統可提高室內相對濕度，冬季通過密閉控制和地面水分蒸發保持適宜的濕度。
1.栽培方式
無土栽培方式大體可以分為兩類：--類是不用固體基質固定根部的，叫無基質栽培；另一類是用固體基質來固定根部的，叫有基質栽培。有基質栽培方式按基質的種類不同又可分為有機基質栽培和無機基質栽培。有機基質的材料有草炭、鋸末、樹皮、稻殼、麥秸和稻草等；無機基質有顆粒基質（如砂、礫、浮石等）、泡沫基質（如聚乙烯、聚丙烯等）、纖維基質（岩棉等）以及其他基質，如珍珠石、蛭石等。
黃瓜根系相比番茄其水培適應性較弱，因此在樹式栽培中採用無機基質栽培較好。
2.根際温度
在基質無土栽培中，影響黃瓜生長的根際温度主要為栽培基質的温度。基質温度較高或較低時，均會影響黃瓜根系對營養的吸收，較高的基質温度會引起根系呼吸作用增強，加速根系老化，一般根際較適宜的温度為18 ~25°C。冬季通過鋪設電熱線，覆蓋透明薄膜增温，夏季則通過覆蓋聚乙烯泡沫板、隔熱覆蓋或銀灰色反光膜等進行降温調節。
3.根際氧環境
黃瓜根系生長髮育過程中，其呼吸作用要消耗氧氣。氧氣不足會影響根系對水分、養分的吸收，甚至引起腐爛，使根系
激素合成的種類和數量發生變化，從而影響作物地上部的生長；在基質無土栽培中，主要通過基質的分層設計，在底層配以顆粒較大的材料，保持較好的透氣性，同時在栽培槽周邊設置較好的透氣環境來實現。
4.營養液濃度（電導率EC）及酸鹼度（pH）管理黃瓜栽培基質對營養液的濃度要求有一個適宜的範圍，並且不同的生育時期，營養液濃度的要求也有所不同。在苗期，適宜的EC值為1.5~1.8 mS/cm；摘花以後的營養生長期，適宜濃度為2.2~2.5 mS/em；結果期的濃度可調整到2.5 ~2.8mS/cm。黃瓜生長期營養液pH適用範圍較廣，在5.5~7.5範圍內可以不必調整，總體上pH呈弱酸性較為適宜。
作物的生長髮育是進行物質再生產的一個綜合過程，為了獲取作物整個生育期的最大有效生產量，除對作物整個生育期的綜合環境進行有效的調節控制外，還要對作物各個生育期的生長態勢、營養生長與生殖生長進行有效的調節控制。在生育前期採取強行抑制生殖生長，促進營養生長，壯大單株分枝數和葉面積，從而在黃瓜定植80天后很快形成強大的根系與植株冠層，為中後期生殖生長和單株高產創造有利條件。
在生殖生長階段，重點控制單日成果數量以及營養生長等的協調關係，以保持生殖生長的持續進行和植株的正常生長。
重點以預防為主、綜合防治，同時儘量做到無公害、低殘留防治。工程措施上，在温室天窗、側窗外安裝防蟲網，以防止在天窗、側窗打開時，害蟲侵人温室。
瓜類蔬菜樹中的黃瓜、甜瓜、西瓜等抗病性相對較差，在樹式栽培過程中由於單株冠幅大、生命週期長等特徵，病蟲害易於發生，應採取綜合預防措施來保障瓜類蔬菜樹的健康持續生長。
