芯片行業競爭日益激烈，但是芯片製造的核心設備光刻機，卻被一家荷蘭的企業ASML所壟斷，行業內幾乎所有的頂尖芯片廠商都是用的ASML的設備。但是最近，日本方面傳來了新消息。日本的多家芯片企業設備製造商正在開始研發EUV高端設備，其中就包含生產光刻機所需要的各種設備。
而日本政府方面更是擺出大手筆，搬出各種政策來鼓勵企業進行研發。全球第三大半導體設備製造商東京電子更是直接撥款1350億元用作EUV高端設備的研發，這也是東京電子今年最大的一筆支出。
光刻機的技術決定了一個企業甚至一個國家芯片行業的技術水平，我們國內對於光刻機一直都是缺少的。之前中芯從ASML訂購的光刻機幾年都沒有發貨，直接拖垮了中芯的研發節奏，這對中芯已經造成了不可逆轉的損失。光刻機技術確實一定程度上抑制了行業技術水平發展，即便是華為也無法倖免，現在華為僅僅作為研發商，卻不能大批量的生產，因為華為目前並不具備大批量工業生產的能力，必須依託台積電才能完成量產的工作，這也是為什麼華為都離不開台積電的原因所在。
就目前來講，全球行業對於芯片的需求都在普遍升高，尤其是像日本這種對高新技術有着更高需求的地方，對於EUV光刻機設備的需求同樣很高。日本現在大力發展EUV設備的研發已經顯示出日本的決心，那就是要超越ASML，並且成為行業的頂尖老大，畢竟一個荷蘭的AMSL都能製造出來光刻機，這對日本來説更是小菜一碟。
要知道，很早以前日本的尼康和佳能就曾經統治過光刻機市場，但是卻被荷蘭的AMSL後來者居上。從那以後，尼康佳能就放棄了對EUV技術的研發，但是隨着市場需求逐漸增大，尼康佳能也不得不開始正視市場，重新拾起自己的EUV技術，並抓緊時間研發。
日本的EUV光刻機技術如果能夠實現對於ASML的超越，日本將徹底實現從無到有到精的轉變。按照現在ASML的效率，八百年都生產不出一個光刻機，但是日本就不一樣，相信日本可以將光刻機作為流水線生產，到那時，全球的芯片產業集羣都將會發生翻天覆地的變化。