一次性通過！國產芯片崛起有望，告別光刻機的時代就要來了？

據觀察者網報道，國產芯片崛起有望了。在中興通訊宣佈5G基站7nm芯片實現商用的同一天，首個基於中芯國際“FinFET N+1”先進工藝的芯片流片和測試全部完成，且一次性通過！這一定程度上意味着國內芯片產業再次突破瓶頸，相關製造技術更是有了質的飛躍，難道告別光刻機的時代就要來了？

據瞭解，目前的高端芯片離不開ASML公司製造的全球最新先進的EUV光刻機，這一定程度上算是業界“共識”。但中芯國際指出，由於此前訂購的EUV光刻機依然因為阻撓而並未完成交易，因此目前所有的N+1和N+2項目都是在脱離EUV光刻機的情況下製造的。更重要的是，儘管光刻機技術達不到，但中芯國際此次一次性通過的芯片測試就採用了7nm工藝，唯一的問題是在性能上有所縮減，沒有達到國際標準的7nm性能要求。

但要注意的是，利用超規格工藝完成的技術進步一定程度上已經可以説是相當大的進步了，全球可以量產7nm工藝芯片的代工廠也不過就台積電和三星兩家，中芯國際的這一突破完全可以説正有“彎道超車”的勢頭。要知道，流片測試本身就是芯片量產前必經的道路，在當前狀態下測試順利通過就意味着量產的到來並不會很遠。中芯國際方面表示，年底會進入小批量生產並交由用户測試的狀態，當測試結束後芯片就有量產的可能。

目前緊隨三星身後的英特爾可能要到2023年才會生產出7nm芯片，這就無疑給了中芯國際擠進全球前三行列的可能。當然，實事求是地講，在沒有EUV光刻機的情況下短期內同前兩位競爭是相當困難的，但考慮到民用行業大部分低功耗需求其實已經足夠，這就意味着中芯國際依然能夠通過中國的市場拓展出一片全新的領域。而且從未來發展前景看，告別他國光刻機的時代其實也不遠了。

對於中國來説，理論上的壁壘往往才是一個行業的弱項，因為這需要的是工業發展帶來的前沿理論和經驗，但在技術上的突破一般來説都要漫長的時間和成千上萬工程師技術的積累，但在中國目前正在日益龐大的相當規模的技術團隊面前，這些技術問題實際上需要的只是數年的“吃苦”。當然，就中國對全球的影響力而言，無論是技術團隊還是企業家都不希望做到任何一個零件都能夠從鍊鐵到設計生產一步到位，中國已經有了全球唯一的全產業鏈，而這付出的代價是無數老一輩人的艱苦奮鬥。

一直堅持“互利共贏”的中國自然是不希望再用大量工程師和熱血青年的青春時光換更多的技術，但從現在的情況看已經是不得不去做的事情了。所以，7nm的工藝已經代表了中國工業的“奇蹟”，未來國產芯片崛起有望，而光刻機技術在可預見的幾年時間裏還會進一步發展，所謂的封鎖不過是一張漏洞百出的“漁網”，中國人的團結和對技術的追求本身就不亞於全球任何國家，而在此之後，告別了國外光刻機的人們將不可阻擋地繼續走向世界。

眼下的中國，擁有着足夠的底氣，還有了眾多國際上的“朋友”，單個產業靠着大量資金的流入和支持，持續長久地公關必然是能夠實現的。更為重要的是，目前的政策支持已經板上釘釘了，中芯國際7nm工藝的N+1芯片的突破不僅會給這一產業帶來新的希望，也是給半導體和相關技術領域打上了“強心針”，產業未來的發展幾乎是一片光明的。