有人這樣形容光刻機：這是一種集合了數學、光學、流體力學、高分子物理與化學、表面物理與化學、精密儀器、機械、自動化、軟件、圖像識別領域頂尖技術的產物。
目前，阿斯麥是世界上唯一能夠能夠提供7nm一下的euv光刻機廠家。一台光刻機要1.2萬歐元，相當於10億元人民幣。2002年，上海微電子成立，其於半導體、泛半導體與高端智能裝備等領域有着出色的成績，已擁有從產品開發、設計到製造與銷售等全面的業務。經過多年的耕耘，在2009年末，上海微電子交付了其首台封裝光刻機產品。在2012年，上海微電子生產的光刻機還實現了外銷。
如今，上海微電子的光刻機技術已經達到了90nm，並實現了生產製造。其已經成長為我國唯一的光刻機巨頭，在中國市場佔比超80%，低端市場幾乎被其壟斷。當前，上海微電子正全力追趕ASML，不過，從技術上來看，二者之間還有着如鴻溝般的差距。
不過，也不能因此而否定上海微電子的進步。光刻機制造工藝極其嚴苛，低端光刻機設備僅零件便要用5萬多個。而且，這些零件都出自全球一流的科技企業之手。可以説，ASML光刻機是歐美等國家技術的集結，不是一個企業或是國家便能夠完成。所以，上海微電子能取得如今的成就已是相當不易。
並且，ASML早在1984年時便已成立，較上海微電子早了18年。同時，ASML在荷蘭擁有近10000名的員工，而上海微電子的管理隊伍與人才團隊只有1000多人。很多事情都不可能一蹴而就，在光刻機領域，更是需要耐心耕耘。面對西方技術封鎖，上海微電子也只能摸着石頭過河。
據瞭解，在2021年，上海微電子有望完成28nm光刻機，並完成交付。若真如此，那麼其與AMSL之間的距離將大大縮小。不過，上海微電子如今正面臨着集成水平低、商用能力差等問題，制約了其發展，亟待解決。希望其能儘快實現突破。
去年4月，武漢光電國家研究中心甘棕松團隊，採用二束激光在自研的光刻膠上突破了光束衍射極限的限制，採用遠場光學的辦法，光刻出最小9納米線寬的線段。該樣機實現了材料，軟件和零部件等三個方面的國產化，打破了三維微納光製造的國外技術壟斷。
如果上海微電子公司在光刻技術上能夠儘快的完成突破，在芯片的製程工藝上早日達到7納米的工藝技術，那麼就能更快的幫助國內的芯片代工商們以及國內受到美國限制的科技們打開一個出口，從目前來看，我國的上海微電子公司具有非常優秀的潛力。
雖然我國相比其他國家在光刻領域發展較晚，而且相比光刻機技術全球第一的ASML公司由多國科研團隊共同研究來説，我國科研團隊隨談相對薄弱。但近兩年來，多次大跨步的向更高端的技術水平邁進，足以説明我國的科研公司以及團隊其科技實力不容小覷，對此大家有什麼看法呢？