SK海力士:未來DRAM會進入10nm以下工藝

  3月22日消息,在近期的世界電氣電子學會(IEEE)國際可靠性研討會(IRPS)中, SK海力士代表理事社長李錫熙表示:在今後會改變內存的材質,並且還會進一步改善設計結構和可靠性。

  

SK海力士:未來DRAM會進入10nm以下工藝

  根據SK海力士方面的説法,未來DRAM產品的製造工藝會逐步推進到10nm及以下工藝。

  而在NAND產品上,SK海力士認為未來的NAND產品將堆疊到600層以上,並且實現元超過HDD(機械硬盤)的超大容量。並且根據其説法:“到2030年,將全世界所有數據中心的硬盤(HDD)更換為低功耗的SSD,可減少4100萬噸二氧化碳排放。”

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