再傳捷報，中國企業有望打破美日壟斷，研發出光刻機核心部件

　　在全球科技發展史中，我國一直都扮演着追隨者的角色，由於在高科技領域的佈局較晚，使得我國龐大的電子產業結構都需要強烈依附於進口芯片，然後在這個過程中，中國企業不僅沒有溢價權，同時還需要面臨着卡脖子的情況。尤其是受當前的大環境影響，國內半導體市場變得尤為動盪不安。

　　在進入5月份之後，台積電報出赴美建廠的消息，使得國人對中芯國際是否能夠成功獲得荷蘭ASMLl高端光刻機的消息十分關注，畢竟當前限制中國芯片產業發展的不再是芯片構架設計環節，而是製造領域。可實際上，在半導體代工領域除了光刻機這一核心設備之外，所需的核心零部件光刻膠的重要性不言而喻。

　　據瞭解，當前全球光刻膠主要被日本和美國主要製造公司所壟斷，畢竟JSR、東京應化等為首的4家日本公司，在全球光刻膠領域的市佔率高達72%。再加上當前排名第五的美國公司，僅僅只是美日兩個國家在全球光客交領域的市佔比便高達85%，所以在美日壟斷光刻膠市場的情況下，也使得我國企業處於被動的狀態下。

　　此外，當前日本廠商對技術含量要求最高的ARF光刻膠領域的市場佔有率已達到了93%，而這種ARF光刻膠基本已運用在28nm-7nm光刻機制造領域，因此，這對於高端EUV的重要性不言而喻。但無奈的是由於我國起步較晚，所以在高端半導體光刻膠領域基本處於空白，但是伴隨着國家重視程度的不斷提高，當前我國半導體產業再傳捷報，中國企業有望打破美日壟斷，研發出光刻機核心零部件。

　　據瞭解，當前包括北京科華，南大光電以及上海新陽都等在內的多家公司都進入了攻克階段，其中南光大更是在5月22日直接表態，自主研發的ARF光刻膠目前正在按計劃進行客户測試，同時這也意味着國內ARF光刻膠技術也獲得了重大突破，並從研發階段走向生產，有望打破美日企業的壟斷。

　　此外，早在2017年，南大光電公司便進入到193nm光刻膠項目的研發當中，同時，南大光電公司還獲得了國家02專項的相關項目立項。在當時，南大光電直接表示將會用三年時間實現ARF光刻膠產品的建設，投產和銷售，最終達到年產量25噸的計劃和生產規模。

　　在時間的流失下，南大光電公司所發佈的消息也表明，原本定下的目標如今終於實現，並將在未來7個月內實現光刻膠的銷售。由此可見，南大光電三年的努力並沒有白費，不過鑑於當前國內並沒有實現光刻機的量產，因此當前國產光刻膠的市場更偏向於國際，若是能夠在世界舞台獲得一杯羹，這也是國產半導體技術的一大重要突破。