再传捷报，中国企业有望打破美日垄断，研发出光刻机核心部件

　　在全球科技发展史中，我国一直都扮演着追随者的角色，由于在高科技领域的布局较晚，使得我国庞大的电子产业结构都需要强烈依附于进口芯片，然后在这个过程中，中国企业不仅没有溢价权，同时还需要面临着卡脖子的情况。尤其是受当前的大环境影响，国内半导体市场变得尤为动荡不安。

　　在进入5月份之后，台积电报出赴美建厂的消息，使得国人对中芯国际是否能够成功获得荷兰ASMLl高端光刻机的消息十分关注，毕竟当前限制中国芯片产业发展的不再是芯片构架设计环节，而是制造领域。可实际上，在半导体代工领域除了光刻机这一核心设备之外，所需的核心零部件光刻胶的重要性不言而喻。

　　据了解，当前全球光刻胶主要被日本和美国主要制造公司所垄断，毕竟JSR、东京应化等为首的4家日本公司，在全球光刻胶领域的市占率高达72%。再加上当前排名第五的美国公司，仅仅只是美日两个国家在全球光客交领域的市占比便高达85%，所以在美日垄断光刻胶市场的情况下，也使得我国企业处于被动的状态下。

　　此外，当前日本厂商对技术含量要求最高的ARF光刻胶领域的市场占有率已达到了93%，而这种ARF光刻胶基本已运用在28nm-7nm光刻机制造领域，因此，这对于高端EUV的重要性不言而喻。但无奈的是由于我国起步较晚，所以在高端半导体光刻胶领域基本处于空白，但是伴随着国家重视程度的不断提高，当前我国半导体产业再传捷报，中国企业有望打破美日垄断，研发出光刻机核心零部件。

　　据了解，当前包括北京科华，南大光电以及上海新阳都等在内的多家公司都进入了攻克阶段，其中南光大更是在5月22日直接表态，自主研发的ARF光刻胶目前正在按计划进行客户测试，同时这也意味着国内ARF光刻胶技术也获得了重大突破，并从研发阶段走向生产，有望打破美日企业的垄断。

　　此外，早在2017年，南大光电公司便进入到193nm光刻胶项目的研发当中，同时，南大光电公司还获得了国家02专项的相关项目立项。在当时，南大光电直接表示将会用三年时间实现ARF光刻胶产品的建设，投产和销售，最终达到年产量25吨的计划和生产规模。

　　在时间的流失下，南大光电公司所发布的消息也表明，原本定下的目标如今终于实现，并将在未来7个月内实现光刻胶的销售。由此可见，南大光电三年的努力并没有白费，不过鉴于当前国内并没有实现光刻机的量产，因此当前国产光刻胶的市场更偏向于国际，若是能够在世界舞台获得一杯羹，这也是国产半导体技术的一大重要突破。