中國唯一光刻機巨頭，坐擁2400項專利，壟斷國內80%的市場

5月中旬美國加強對華為芯片管制的消息，不出意外地引發業內譁然。在美國的步步緊逼下，國內不少企業都開始未雨綢繆地加快“自研+去美化”的進程。而考慮到台積電後續可能無法繼續為華為芯片代工的情況，中芯國際理所當然地被寄予厚望，但遺憾的是，中芯國際的7nm進程卻卡在了高端光刻機的缺席上。

那麼中國是否就對光刻機的製造一無所知呢？其實並不然，中國便有一個光刻機巨頭，如今已經坐擁2400項專利，壟斷國內80%的光刻機市場份額。它就是上海微電子裝備股份有限公司。

據公開資料顯示：上海微電子成立於2002年，公司主要從事半導體、泛半導體以及高端智能裝備的設計和製造，而生產光刻機便是其主營業務。作為內地光刻設備的龍頭企業，上海微電子曾經在中國半導體協會針對半導體設備商的實力排行中，以第五名的成績成為當時唯一一個上榜的專門研究光刻機的廠商。

與此同時，在國內中端先進封裝光刻機和LED光刻機市場，上海微電子還佔據了80%的市場份額，實力絕對毋庸置疑。此外，企查查數據顯示，截至2018年12月，上海微電子的直接持有的各項專利以及專利申請數量，更是超過2400項，“中國光刻機巨頭”的稱號也是實至名歸。

不過遺憾的是，即便上海微電子在國內光刻機市場是數一數二的存在，但若是放眼全球的話，上海微電子卻只能排在第四，被第一名的ASML以及第二三名的日本佳能和康尼等公司遠遠甩在身後。而且相比於荷蘭ASML已經可以生產出適用於7nm，甚至5nm製程的高精度光刻機，上海微電子目前卻只能生產出90nm的光刻機，二者的差距一目瞭然。

值得一提的是，據5月17日消息，上海微電子計劃將在2021年交付首台國產28nm的immersion光刻機。即便這一光刻機技術比之ASML有着近乎20年的差距，但是對於國產光刻機而言，依舊是一個極大的進步。

而另一方面，根據最新報道，上海微電子貌似又有新動作，預計在2020年12月，可能會下線首台採用ArF光源的SSA800/10W光刻機，這一光刻機，將擁有生產11nm芯片的實力。更令人讚不絕口的是，若是其採用的華卓精科工作台的套刻精度指標優於1.7nm的話，該光刻機或將擁有生產7nm芯片的實力。

所以從上述消息不難看出，如今實力在國內光刻機市場屈指可數的上海微電子，已經成為中國光刻機的希望。不知對此，你是否認同？