差距何止光刻機,這才是中芯國際真正的短板

芯片危機

2020年對我們國家來説是艱難的一年,因為特朗普和美國對華為施加了嚴格的芯片封鎖。這不僅是華為面臨的主要問題,也是國內芯片業務的危機!

眾所周知,與美國等發達國家相比,國內芯片業務起步較晚,而且長期以來一直受到國外技術封鎖和人才壟斷的困擾。這也直接導致了國內芯片水平的落後。高度依賴進口。

美國對華為芯片的封鎖無限期地放大了這一點,使我們意識到,要在中國實現技術自主權還有很長的路要走。目前,中國在這方面的主要弱點是芯片的生產和封裝,這也是華為面臨的最大問題。

除了是知名的手機制造商外,華為還是中國最大的半導體公司之一。其HiSilicon能夠獨立設計高端芯片。在芯片設計方面,可以説華為已經躋身世界頂級水平。但是華為最大的痛點是它無法生產芯片。

那麼華為的芯片供應來自哪裏呢?以前,台積電一直是華為的主要芯片供應商,基本上控制着華為高端芯片的命脈。換句話説,沒有台積電,就無法保證華為高端芯片的供應,限制台積電向華為供應芯片是美國芯片封鎖的主要手段。

很多人可能會問,為什麼華為沒有在中國大陸找到合作的芯片代工廠?我們為什麼要堅持台積電?其實華為也曾考慮過這一點,但是目前國內的芯片代工廠真的很尷尬!

中國最先進的芯片代工廠是中芯國際。目前,它即將達到7nm工藝芯片的量產技術,而華為的下一代芯片則採用5nm級。中芯國際很難獨自達到這一點。而台積電已經觸及了3nm芯片的門檻,可以看出中芯國際與台積電之間的差距非常大!

差距不是光刻機

有人可能會問,為什麼中芯國際與台積電之間的差距如此之大?是因為台積電擁有高端光刻機而中芯國際卻沒有?

誠然,光刻機之間的差距是我們必須正視的問題,因為沒有高端光刻機,就不可能生產出高端工藝的芯片。台積電目前從ASML進口了兩台最先進的EUV光刻機,用於生產5nm芯片,但中芯國際在這方面仍然空白。

因此,光刻機是造成台積電與中芯國際之間差距的主要因素之一,但主要差距不是這個,也就是説,中芯國際與台積電之間的差距與光刻機不一樣!

華裔院士揭露真相

由於中芯國際與台積電之間的差距並不在於光刻機上,是什麼因素導致台積電如此領先?日前,華裔美國學者馬佐平就此問題發表了看法。他認為中芯國際與人才數量和質量之間的主要差距。

據馬院士説,台積電是世界上最大的芯片代工廠,擁有數萬名專業技術人員,而中芯國際在中國只有幾百到三百到四百名人才,而且人才素質還沒有贏得。這樣,台積電自然很容易與中芯國際縮小差距。

因此,技術和設備的落後並不可怕。可怕的是缺少相關人才。只要提高人才的數量和質量,就不難克服技術和設備問題。

總結一下

儘管專家們的話一直都不怎麼靠譜,但馬院士對國內芯片危機的看法無疑是非常合理的,因為人才的缺乏一直是國內芯片行業的主要問題。我希望該國將來能夠針對此問題採取合理的措施,以便更多的人才願意投資於芯片研究事業!

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