國內能生產光刻機嗎？答案是當然可以生產光刻機了，而且國產光刻機的發展史比全球最先進的光刻機廠商ASML還要早20餘年，然而國產光刻機和全球頂尖光刻機還有很大的差距。在半導體漫長的發展史中，光刻機始終是最耀眼的明珠，從某種程度上來説，它代表了人類科技發展的頂級水平之一，沒有光刻機就生產不了芯片，光刻機是芯片製造中必不可少的非常精密的設備。
近兩年美國對華為的限制一步步升級，美國發布公告全面限制華為購買採用美國軟件和技術生產的半導體，包括那些處於美國以外，被列為美國商務管制清單中的生產設備，要為華為和海思生產代工前，都需要獲得美國的許可證。
華為最擔心的還是來了，這次美國對華為的全面封鎖，不單單是對華為的制裁，而是對中國芯片供應鏈的限制。眾所周知，華為的芯片設計能力處於世界前列，但是卻沒有生產芯片的能力，國產光刻機由於發展緩慢，還有荷蘭光刻機被美國限制出售給中芯國際，從而國產芯片製造業被美國掐住了脖子。
國產光刻機發展史可以説是很漫長了，在70年代國產光刻機的研究上取得了很大的進步，據相關資料記載，當時中國半導體產業雖然沒有超越當時世界最先水平，但是也沒有太大的差距，但是到了80年代，一大批企業紛紛開始採取“造不如買”的政策，盲目對外開放，沒有了頂層設計，中國光刻機發展可以説是最緩慢的年代，漸漸的和世界先進光刻機拉開了較大的距離。
目前國產生產光刻機的廠家有上海微電子裝備、合肥芯碩半導體、京先騰光電科技、無錫影速半導體科技等。然而其中規模最大、技術最先進的就是上海微電子裝備有限公司了，可以生產90nm工藝技術的光刻機。
面對美國對國產光刻機技術的長期封鎖，國內依然生產出了90nm高端光刻機，這意味着國內半導體產業又向前跨出了關鍵的一大步，國內現在正在攻克14nm光刻機技術，相信在不久的將來國產光刻機能夠達到世界頂級水平。