本文轉自【經濟參考報】;原標題:【http://dz.jjckb.cn/www/pages/webpage2009/html/2020-09/02/content_67242.htm】
三星電子平澤工廠第二生產線正式開工,首發量產產品採用EUV(極紫外光刻)製程的16GB LPDDR5移動DRAM,開創業界先河。
平澤工廠第二生產線建築面積達12.89萬平方米,是全球規模最大的半導體生產線。第二生產線將首先實現DRAM量產,下一步計劃生產新一代VNAND、超精細晶圓代工產品等。
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三星電子平澤工廠第二生產線正式開工,首發量產產品採用EUV(極紫外光刻)製程的16GB LPDDR5移動DRAM,開創業界先河。
平澤工廠第二生產線建築面積達12.89萬平方米,是全球規模最大的半導體生產線。第二生產線將首先實現DRAM量產,下一步計劃生產新一代VNAND、超精細晶圓代工產品等。
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