近年來，中國的科學技術得到了快速的發展，突破了很多西方國家的技術封鎖，在一些尖端技術領域上，中國已經超越了美國，處在世界領先的位置，但是在芯片領域和光刻技術領域的研發上，中國曾一度處於世界落後的位置，缺乏製造高端芯片的核心技術，長時間依賴國外的進口，但是受限於以美國為首的西方國家的制裁，從現在軍用芯片領域和光刻技術領域的世界排名來看，中國的排名有點出人意料。
首先，在芯片製造領域，中國近年來已經取得了很大的突破，已經具備自主研發和製造高端芯片的能力。經過很多科學家夜以繼日的研究，中國在軍用芯片領域的研究取得了重大成果，從華睿1號到華睿2號的研究歷程上可以看出中國在高端芯片製造領域上的突破和進步，軍用芯片相比民用芯片的要求更高，需要適應很多的特殊環境，還需要具有穩定的性能，經過這麼多年的發展，可以毫不猶豫的説現在的中國芯片已經達到了世界先進的水平，完全可以滿足中國的戰略需求。
其次，中國在光刻技術領域的研究上也取得了一定的突破。現在光刻技術的核心技術一直被以美國為首的西方國家牢牢掌握，並且他們對中國的光刻技術有着非常嚴密的技術封鎖，企圖遏制中國光刻技術的發展，為此中國現在幾乎無法從世界其他國家獲得先進的光刻機來進行相關研究，完全只能靠自己自主研發。目前中國正在夜以繼日的攻破製造先進光刻機的核心技術，並且取得了一定程度的突破，而且中國正在向攻破EUV光刻機的核心技術方向邁進，雖然中國現在在光刻機領域的排名只能排到中下水平，但是相信在不久的將來中國的光刻機會得到更好的發展。
雖然現在美國正聯合西方國家對中國不斷進行制裁，特別是近日美國宣佈對華為在芯片領域進行嚴厲的制裁，但是依然不能阻擋中國前進的步伐，相信未來的中國只會變得越來越強大。