昨日A股市場在午後出現跳水，創業板指、深證成指先後翻綠，但是光刻膠板塊的整體表現依然非常強勢，板塊內的南大光電、廣信材料、晶瑞股份錄得漲停，江化微、飛凱材料、上海新陽等概念股也紛紛大漲。
而從年初算起至今，該板塊內的容大感光、安集科技、雅克科技等6只個股的期間漲幅已經翻倍，同益股份、芯源微、捷捷微電等個股的漲幅也都超過了50%。
以今年已經飆漲158%的南大光電（300346.SZ）為例，該公司自2020年年初以來，11次登上龍虎榜，期間的龍虎榜上既有遊資席位也有機構席位。
5月27日，龍虎榜的買入榜單顯示，買一是機構席位興業證券陝西分公司，買二至買五席位分別是遊資中信上海溧陽路營業部、東方財富拉薩東環路第二營業部、聯儲深圳深南大道金運世紀營業部、東方財富拉薩團結路第二營業部。
賣出榜單則顯示，賣一同樣是上述的興業證券陝西分公司，其餘的席位中還有財通紹興人民中路營業部、廣發上海東方路營業部等遊資席位。
在目前美國加大力度制裁國產晶片背景下，光刻膠作為積體電路製程技術進步的“燃料”，是國產代替重要環節，也是必將國產化的產品。
資料顯示，光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對光敏感的混合液體，其組成部分包括：光引發劑（包括光增感劑、光致產酸劑）、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以透過光化學反應，經曝光、顯影等光刻工序將所需要的微細圖形從光罩（掩模版）轉移到積體電路材料、顯示面板材料或者印刷電路板等待加工基片上。
因此，按應用領域分類，光刻膠可分為PCB光刻膠、顯示面板光刻膠、半導體光刻膠及其他光刻膠。
光刻膠的質量和效能是影響積體電路效能、成品率及可靠性的關鍵因素。光刻工藝的成本約為整個晶片製造工藝的35%，並且耗費時間約佔整個晶片工藝的40%-50%。光刻膠材料約佔IC製造材料總成本的4%，是半導體積體電路製造的核心材料。
從全球範圍來看，光刻膠屬於高技術壁壘材料，生產工藝複雜，純度要求高，需要長期的技術積累。日本的JSR、東京應化、信越化學及富士電子四家企業佔據了全球70%以上的市場份額，處於市場壟斷地位，大陸企業份額不足10%，國內光刻膠仍十分依賴進口。
值得一提的是，隨著中國大陸晶圓廠建設加速，全球半導體產業東移，以及下游5G終端、消費電子、汽車電子、物聯網、高效能計算等應用需求旺盛，中國光刻膠市場在需求增長和市場擴大下保持了較好的上升趨勢。
依據前瞻產業研究院的資料，2017年中國光刻膠需求量已達7.99萬噸，近年的年複合增長率達14.69%；市場規模達到58.7億元，年複合增長率達11.59%。估計2018年光刻膠需求量在8.44萬噸，市場規模約為62.3億元。
從市場前景來看，光刻膠行業本身發展非常迅速，而且還存在著非常廣闊的國產替代空間。
另外，積體電路大基金二期已經完成募集，目前正陸續展開投資，根據此前的報道，半導體材料將會是其重點投資方向之一，光刻膠領域的相關企業或將受益。
比較利好的訊息是已經有一些中國企業在向高階光刻膠市場進軍了。
5月27日晚間，南大光電公告中稱，公司承接的國家“02專項”之“ArF光刻膠產品的開發和產業化專案”的基礎建設按計劃進行；2019年底完成一條生產線的安裝，正在除錯階段。
2020年4月，公司採購的用於檢測ArF（193nm）光刻膠產品效能的光刻機運入寧波南大光電工廠，5月開始進行安裝除錯，預計安裝除錯需要4-5個月的時間。公司製備ArF（193nm）光刻膠用的高純原材料來源於自主研發，研製出的ArF（193nm）光刻膠樣品正在供客戶測試。
目前“ArF光刻膠開發和產業化專案”正處於光刻膠樣品驗證階段，驗證過程預計需要12-18個月，甚至更長的時間。
與此同時，該公司也表示，ArF（193nm）光刻膠產品開發技術突破難度大、工藝要求高，且實現穩定量產週期較長，後續是否能取得下游客戶的訂單，能否大規模進入市場仍存在較多的不確定性。
另外，對於投資者而言，光刻膠行業內大多數上市公司的股價均已在短期內大幅上漲，而且公司本身也存在著一些問題。
從業績方面來看，今年股價翻倍的南大光電、安集科技、容大感光等公司的營收、淨利潤規模都比較小，而且容大感光今年一季度的業績還出現了下滑。
在股價持續上漲後，該板塊中的一些個股也存在著估值偏高的問題，以昨日漲停的南大光電為例，該股昨日的PE已經來到了235.32倍，偏離平均值較多。
據不完全統計，僅在2020年南大光電的股東南京大學資產經營有限公司、上海同華創業投資股份有限公司就合計減持了1428.35萬股，減持市值超過1.68億元。
