據報道，近日，中國科學院蘇州奈米技術與奈米仿生研究所張子暘研究員與國家奈米中心劉前研究員合作，開發成功新型5nm超高精度鐳射光刻加工方法。該技術使用了研究團隊所開發的具有完全智慧財產權的鐳射直寫裝置，打破了傳統鐳射直寫技術中受體材料為有機光刻膠的限制，可使用多種受體材料，極大地擴充套件了鐳射直寫的應用場景。
亞10nm的結構在積體電路、光子晶片、微納感測、光電晶片、奈米器件等技術領域有著巨大的應用需求，這對微納加工的效率和精度提出了許多新的挑戰。然而，長期以來鐳射直寫技術很難做到奈米尺度的超高精度加工。此次中國研究團隊很好地解決了高效和高精度之間的固有矛盾，開發的新型微納加工技術在積體電路、光子晶片、微機電系統等眾多微納加工領域展現了廣闊的應用前景。
相關上市公司：
清溢光電：主要採用鐳射直寫法生產積體電路掩膜版，客戶包括中芯國際等；
蘇大維格：研發成功紫外鐳射直寫光刻關鍵技術、軟體和裝備，處於國際領先地位。公司在互動平臺表示，與中國科學院蘇州奈米技術與奈米仿生研究所有專案合作。