楠木軒

長江儲存急了,今後高階快閃記憶體顆粒需要光刻機,ASML已經宣佈斷供

由 聞人海瑤 釋出於 科技

晶片的製造少不了ASML生產的光刻機,其中目前最先進的當屬ASML旗下的EUV光刻機,比如麒麟990 5G晶片就是使用了7nm euv工藝,由臺積電代工製造,未來也會有更多的PC晶片和手機晶片使用這一工藝。但是很多人可能沒有想到,如今連記憶體顆粒生產也都要用上EUV光刻機了。

EUV光刻機的單價不菲,一臺就要上10億美元,當然,這類光刻機的前期研發和設計也是三星、臺積電和Intel共同參與的,如今後者都購入了數量不等的EUV光刻機用於生產各類晶片。然而記憶體顆粒為了提升儲存密度,也必須及時使用最先進的半導體工藝,在三星之後,SK海力士也準備購買EUV光刻機。

SK海力士作為全球第二大記憶體顆粒供應商,目前已經在研發1x nm工藝的記憶體,內部代號“南極星”,具體節點大概在15nm,預計會引入EUV光刻機生產。而三星將從第四代10nm記憶體顆粒或部分高階14nm記憶體顆粒開始全面匯入EUV光刻機生產,進度明顯比SK海力士要快。

對於記憶體顆粒來說,相比之前的深紫外光刻機,EUV光刻機可以減少多重曝光工藝,提升工藝精度和良品率,從而可以減少生產時間、降低成本,並提高效能。因此,儘管EUV光刻機10億美元一臺的初期成本很高,維護費用也不可小覷,但是可以通過後期的記憶體顆粒大批次生產來攤薄成本,長遠來看也有利於記憶體的降價。