低調的國產光刻機，壟斷中國80%市場，擁有2400項專利！

Euv光刻機一機難求

一提到光刻機技術，很多人脫口而出就是ASML光刻機。歷數全球，也只有荷蘭一家叫做阿斯麥(ASML)最負盛名，其裝置也是大量被臺積電、三星等巨頭採用，並且尖端光刻機並不對中國出口。作為晶片設計的重中之重，光刻機技術研發難度極大，AMSL高管曾經直言不諱表示，即便是將圖紙公開出去，也不可能被複制和山寨。而阿斯麥(ASML)一年時間造得出二十臺高階裝置，主要還是被三星臺積電搶走訂單，而中芯國際苦等多年也無法引進EUV光刻機，這的確讓人感到惋惜！

低調的國產光刻機巨頭

ASML之所以會將大部分訂單給了臺積電和三星，背後原因很扎心，其實臺積電和三星本身就是ASML的股東，因此想拿到一臺光刻機也並非難事。而5月中旬美國加強對華為晶片管制的訊息，這時候中國就更不可能引進ASML的EUV光刻機了，晶片代工業務的確是被“卡脖子”。也正是因為如此，中芯國際的7nm程序遲遲無法突破，目前也是停留在14nm階段。那麼中國在光刻機領域就真的一事無成了嗎？其實國內有一家公司被低估了實力，它就是上海微電子裝備股份有限公司。

不聲不響拿到2400項專利

和阿麥斯ASML光刻機不通，上海微電子裝備股份有限公司的光刻機主要是面向中低端市場的，也並非最先進的EUV工藝。這家成立於2002年的半導體公司，過去二十年也是發展很快，也是國內為數不多具備生產光刻機技術的廠商，但是面對的市場是中低端晶片市場，比如說90nm的光刻機。而媒體報道訊息稱，上海微電子將交付首臺國產28nm光刻機，技術方面實現突破。而這家公司也不簡單，擁有2400項專利，壟斷國內80%的光刻機市場份額。別看是面向中低端晶片市場，其實已經滿足國內大部分產品的晶片加工需求了！

衝刺11nm製程

更為振奮人心的是，上海微電子預計在今年12月將可能下降首臺採用ArF光源的可生產11奈米的SSA800/10W光刻機，未來將會逐漸衝擊更先進製程，當之無愧“中國光刻機巨頭”。雖然是國內光刻機巨頭，可我們必須要承認差距，和世界巨頭ASML、佳能。尼康等公司比起來，技術方面還是落後不少的。如今海微電子正在透過建設並參與產業智慧財產權聯盟，進一步整合共享了大量聯盟成員智慧財產權資源，國產光刻機事業也是迎來新的征程。

華為正在接觸高通？

這時候有網友提問，華為未來可能無法用上5nm晶片，又沒有可能降到7nm或者10nm呢？從目前國內晶片代工水平來看，最先進製程還是在14nm，而最先的榮耀play4T pro就是用的中芯國際的14nm製程打造。不過有訊息稱華為未來可能會有一個大膽的想法，在海思晶片無法成功量產的情況下，華為已經在接觸聯發科、高通等晶片供應商了，甚至有望用上高通晶片，如果高通方面方面可以為華為提供最高階5G晶片的話，筆者覺得華為手機也算是躲過一劫了。

總結

而接下來的華為mate40將會用上臺積電5nm晶片，也就是麒麟1020，不過明年就可能被斷供了。一旦無法用上最好的晶片，那麼下一代的華為mate旗艦產品的確無法和接下來的iPhone13、三星S30等產品競爭！不過個人還有另外一個觀點，現在手機效能早就已經過剩了，現在各大廠商也很少再去吹什麼晶片，反而是更注重手機拍照功能，所以即便是沒有先進的5nm、7nm工藝製程，華為手機一樣可以用上14nm晶片，反正日常使用不受影響，大部分使用者也一樣會繼續支援。

也希望國產科技公司再接再厲，儘快攻克光刻機難題，這是一個最壞的時代，也將是一個最好的時代，你們說呢？