芯片的製造少不了ASML生產的光刻機，其中目前最先進的當屬ASML旗下的EUV光刻機，比如麒麟990 5G芯片就是使用了7nm euv工藝，由台積電代工製造，未來也會有更多的PC芯片和手機芯片使用這一工藝。但是很多人可能沒有想到，如今連內存顆粒生產也都要用上EUV光刻機了。
EUV光刻機的單價不菲，一台就要上10億美元，當然，這類光刻機的前期研發和設計也是三星、台積電和Intel共同參與的，如今後者都購入了數量不等的EUV光刻機用於生產各類芯片。然而內存顆粒為了提升存儲密度，也必須及時使用最先進的半導體工藝，在三星之後，SK海力士也準備購買EUV光刻機。
SK海力士作為全球第二大內存顆粒供應商，目前已經在研發1x nm工藝的內存，內部代號“南極星”，具體節點大概在15nm，預計會引入EUV光刻機生產。而三星將從第四代10nm內存顆粒或部分高端14nm內存顆粒開始全面導入EUV光刻機生產，進度明顯比SK海力士要快。
對於內存顆粒來説，相比之前的深紫外光刻機，EUV光刻機可以減少多重曝光工藝，提升工藝精度和良品率，從而可以減少生產時間、降低成本，並提高性能。因此，儘管EUV光刻機10億美元一台的初期成本很高，維護費用也不可小覷，但是可以通過後期的內存顆粒大批量生產來攤薄成本，長遠來看也有利於內存的降價。